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LIDAR-Fotodiode C30737LH-300-71N
SiliziumAvalanchewellenlängenempfindlich

LIDAR-Fotodiode - C30737LH-300-71N - Excelitas Technologies - PCO - Silizium / Avalanche / wellenlängenempfindlich
LIDAR-Fotodiode - C30737LH-300-71N - Excelitas Technologies - PCO - Silizium / Avalanche / wellenlängenempfindlich
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Eigenschaften

Merkmal
LIDAR, Silizium, Avalanche, wellenlängenempfindlich, Infrarot
Installierung
chip on carrier

Beschreibung

Produktübersicht
Der C30737LH-300-71N ist eine Silizium-Avalanche-Photodiode (Si APD) mit einem aktiven Durchmesser von 300 µm im leadless Ceramic Carrier (LCC). Sie verfügt über ein integriertes 635-nm-Bandpassfilter und eine verbesserte Ansprechbarkeit um 800 nm. Entwickelt für schnelle, rauscharme Detektion in kompakten optoelektronischen Systemen.

Hauptmerkmale
  • Optisches Bandpassfilter bei 635 nm für wellenlängenselektive Detektion.
  • Hohe Empfindlichkeit und niedriges Rauschen mit schneller Anstiegszeit; Frequenzgang über 700 MHz.
  • Aktiver Durchmesser 300 µm, optimierte Empfindlichkeit bei 800 nm.
  • Leadless Ceramic Carrier (LCC) Gehäuse für kompakte Integration.
  • Verstärkung und Empfindlichkeit geeignet für Laser-Entfernungsmessung und Distanzmessgeräte.

Anwendungsgebiete
  • Laser-Entfernungsmesser und LIDAR-Empfänger
  • Distanzmessgeräte und industrielle Reichweitenmessungen
  • Flächen- und Sicherheitsscanner
  • Kostensensible Anwendungen, die einen leistungsfähigen Detektor erfordern

Technische Daten
  • Aktiver Durchmesser: 300 µm
  • Wellenlänge der höchsten Empfindlichkeit: 635 nm
  • Durchbruchspannung (Vbd): 110–165 V
  • Temperaturkoeffizient von Vop bei konstantem M: 0,6 V/°C
  • Verstärkung: 100 @ 800 nm
  • Empfindlichkeit: 30 A/W bei 635 nm
  • Dunkelstrom (Id): 1 nA
  • Rauschstrom: 0,2 pA/√Hz
  • Kapazitanz: 0,7 pF
  • Grenzfrequenz: 700 MHz
  • Lagerungstemperatur: -40 °C bis +100 °C
  • Betriebstemperatur: -20 °C bis +60 °C
  • Gehäuse: 3×3 mm LCC mit Glasfenster
  • Fenster: 635 nm Filterfenster

Kataloge

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electronica Munich 2026
electronica Munich 2026

10-13 Nov. 2026 Munich (Deutschland) Halle B4 - Stand 302

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