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Avalanche-Fotodiode C30737LH-230-92N
InfrarotwellenlängenempfindlichLIDAR

Avalanche-Fotodiode - C30737LH-230-92N - Excelitas Technologies - PCO - Infrarot / wellenlängenempfindlich / LIDAR
Avalanche-Fotodiode - C30737LH-230-92N - Excelitas Technologies - PCO - Infrarot / wellenlängenempfindlich / LIDAR
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Eigenschaften

Merkmal
Avalanche, Infrarot, wellenlängenempfindlich, LIDAR, Silizium
Installierung
chip on carrier

Beschreibung

Produktbeschreibung
Der C30737LH-230-92N Silizium-Avalanche-Photodiode (Si APD) bietet einen aktiven Durchmesser von 230 μm, eine verbesserte Empfindlichkeit bei 900 nm und einen 905 nm Bandpass-Filter in einem leadless Keramikgehäuse (LCC). Entwickelt für gefilterte, hochfrequente Detektion in kompakten Bauformen, verbindet sie schnelle zeitliche Reaktion mit enger optischer Selektivität.

Hauptmerkmale
  • Hohe Responsivität gefiltert bei 905 nm
  • Niedriges Rauschen und sehr schnelle Anstiegszeit über alle Wellenlängen mit einer Frequenzantwort über 380 MHz
  • Aktiver Durchmesser 230 μm, optimiert für 900 nm Betrieb
  • Integrierter 905 nm optischer Bandpass-Filter
  • Leadless Keramikgehäuse (LCC) für kompakte Montage

Anwendungen
  • LiDAR-Systeme
  • Laser-Entfernungsmessung
  • Sicherheits- und Scangeräte
  • Kostensensible Anwendungen, die einen leistungsfähigen Detektor erfordern

Technische Daten
  • Aktiver Durchmesser: 230 μm
  • Wellenlänge der maximalen Empfindlichkeit: 905 nm
  • Durchbruchspannung (Vbd): 180–260 V (Binning verfügbar)
  • Temperaturkoeffizient von Vop für konstantes M: 1,3 V/°C
  • Verstärkung: 100 @ 900 nm
  • Responsivität: 60 A/W bei 900 nm
  • Dunkelstrom (Id): typ. 0,05 nA, max <0,5 nA
  • Rauschstrom: 0,1 pA/√Hz
  • Kapazität: 0,6 pF
  • Steig-/Abfallzeit: 0,9 ns (Rload = 50 Ω)
  • Grenzfrequenz: 380 MHz
  • Lagerungstemperatur: -50 °C bis +100 °C
  • Betriebstemperatur: -40 °C bis +85 °C
  • Gehäuse: 3 x 3 mm Glasfenster, leadless Keramikgehäuse (LCC)
  • Fenster: 905 nm Filter

Kataloge

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electronica Munich 2026
electronica Munich 2026

10-13 Nov. 2026 Munich (Deutschland) Halle B4 - Stand 302

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