Vakuum-Beschichtungsanlage / für kleine Losgrößen DXP-450A

Die Laser-Beschichtungsanlage DXP-450A ist für die Herstellung von supraleitenden Dünnschichten, halbleitenden Schichten, ferroelektrischen Schichten und anderen funktionalen Dünnschichten für wissenschaftliche Forschung und Kleinserienfertigung ausgelegt. Sie eignet sich für Universitäten und Forschungseinrichtungen zur Entwicklung und Untersuchung von Dünnschichtmaterialien.

Zusammensetzung

• Das System besteht hauptsächlich aus einer Sputter-Vakuumkammer, einer rotierenden Target-Plattform, einer antioxidativen beheizten Substratplatte, dem Arbeitsluftkreis, einem Luftspülsystem, Montageeinrichtung, Vakuummessung, elektrischer Steuerung und zugehörigen Zubehörteilen.

Technische Kennwerte

• Modell: DXP-450A
• Hauptvakuumkammer: Kugel, Größe: Ø450 mm
• Aufbau des Vakuumsystems: Mechanische Pumpe, Molekularpumpe, Schieber
• Enddruck: ≤6.67*10^-5 Pa (nach Backen und Entgasen)
• Vakuum-Wiederherstellungszeit: Erreicht 5*10^-3 Pa in 20 Min. (kurze Luft-Exposition und Einblasen von trockenem Chlor vor dem Abpumpen)
• Rotierende Target-Plattform: Target-Größe: Ø60 mm oder Ø25 mm; bis zu 4 Targets gleichzeitig installierbar; Target-Wechsel durch Umdrehung möglich; jedes Target drehbar; Drehzahl: 5-60 rpm
• Substrat-Heizplatte - Probengröße: 2-Zoll-Probe (ein Stück)
• Substrat-Heizplatte - Bewegungsart: Substrat kann kontinuierlich rotieren; Drehzahl: 5-60 rpm
• Substrat-Heizplatte - Heizung: Max. Substrattemperatur 800℃±1℃
• Luftkreislauf-System: Massen-/Volumenstromregler, 1 Kanal
• Laserstrahl-Scanvorrichtung: Zwei-dimensionale mechanische Scanningbühne, ermöglicht freies 2D-Scanning
• Computersteuerungssystem: Steuert Plattenrevolution, Target-Rotation, Probendrehung, Probentemperaturregelung, Laser-Scanning und weitere Funktionen
• Flächenbedarf - Hauptgerät: 850*850 mm²
• Flächenbedarf - Schaltschrank: 700*700 mm² (1 Satz)

Technische Daten

• Modell: DXP-450A
• Geometrie & Größe der Hauptvakuumkammer: Sphärische Kammer Ø450 mm
• Vakuumsystem-Komponenten: Mechanische Pumpe + Molekularpumpe + Schieber
• Endvakuum: ≤6.67*10^-5 Pa (nach Backen/Entgasen)
• Typische Wiederherstellung auf 5*10^-3 Pa: ~20 Minuten (Verfahren beinhaltet kurze Luft-Exposition und Einblasen von trockenem Chlor vor dem Abpumpen)
• Target-Konfiguration: Bis zu 4 Targets (Ø60 mm oder Ø25 mm), einzeln drehbar; Plattformdrehung 5-60 rpm
• Substrat-Handhabung: 2-Zoll-Probe (ein Stück), kontinuierliche Substratrotation (5-60 rpm)
• Max. Substrattemperatur: 800℃ ±1℃
• Gas/Luft-Kreis: Einkanal-Massen/Volumenstromregler
• Laser-Scanning: 2D-mechanische Scanningbühne für flexibles Scannen
• Steuerung: Integrierte Computersteuerung für Targets, Probendrehung, Temperatur und Laser-Scanning
• Platzbedarf: Hauptgerät 850×850 mm²; Schaltschrank 700×700 mm² (1 Satz)