Sputter-Auftragsmaschine / mit Magnetron DXJ-450D

Metallisierung

Das Einkammer-Magnetronsputtersystem DXJ-450D ist für Forschung und Kleinserienfertigung fortschrittlicher nanoskaliger Mono- und Multilayer-Dünnfilme ausgelegt, einschließlich Hartbeschichtungen, Metall-, Halbleiter- und Dielektrikafilmen; geeignet für Universitäten und Forschungseinrichtungen.

Aufbau

• Das System besteht hauptsächlich aus einer Sputter-Vakuumkammer, Magnetron-Sputtertargets, einer wassergekühlten Substrat-Heizplatte, Arbeitsgaskreislauf, Pumpsystem, Vakuummessung, elektronischem Steuersystem und Installationsschrank.

Technische Daten

• Modell: DXJ-450D
• Größe der Vakuumkammer: zylindrische Kammer Ø450 × 350 mm
• Konfiguration des Vakuumsystems: kombinierte Molekularpumpe, mechanische Pumpe, Schieber
• Enddruck: ≤ 6.67×10⁻⁵ Pa (nach Bake und Entgasung)
• Vakuum-Wiederherstellungszeit: erreicht 6.6×10⁻⁴ Pa in 40 min (nach kurzer Luftbelüftung und Trocken-Chlor-Spülung vor dem Evakuieren)
• Permanent-Magnetrontargets: drei permanente Targets, Ø60 mm (eines kann magnetisches Material sputtern); RF- und DC-kompatibel; alle drei Targets können über die Probenmitte geneigt werden; Target‑to‑Sample Abstand einstellbar 90–110 mm (beim Aufwärts-Sputtern 40–80 mm)
• Substratsystem: einzelne wassergekühlte Substrat-Heizplatte mit unabhängiger Heizung und Kühlung; Heizofen abnehmbar zum Einbau der wassergekühlten Platte
• Probenmaß: Ø30 mm
• Bewegungsart: kontinuierliche Substratrotation; Drehzahl 5–10 rpm
• Heizung: maximale Substrattemperatur 600°C ±1°C
• Negativer Substrat-Bias: -200 V
• Gaskreislauf: Massendurchflussregler, 2 Kanäle
• Computersteuerung: steuert Probenrotation, Blendenumschaltung, Zielpositionsbestätigung usw.
• Optionale Zubehörteile: 6‑Stationen Substratrotationsplatte (ersetzt die abnehmbare Einzelplatte; unterstützt sechs Ø30 mm Proben; eine Station für Heizofen; andere für Wasser- oder Naturkühlung; max. Substrattemp. 600°C ±1°C)
• Aufstellfläche — Gehäuse: 1300 × 800 mm²
• Aufstellfläche — Schaltschrank: 700 × 700 mm² (2 Stück)

Technische Spezifikationen

• Verwendungszweck: Herstellung nanoskaliger Mono-/Multilayer-Funktionsfilme (hart, Metall, Halbleiter, Dielektrikum)
• Modellbezeichnung: DXJ-450D
• Außenmaße Kammer: Ø450 × 350 mm
• Endvakuum: ≤ 6.67×10⁻⁵ Pa (post-bake)
• Standard-Pumpen: kombinierte Molekularpumpe + mechanische Pumpe mit Schieber
• Targets: drei permanente Magnetron-Targets Ø60 mm, RF- und DC-kompatibel
• Substrathandling: einzelne abnehmbare wassergekühlte Heizplatte; Probe Ø30 mm; Rotation 5–10 rpm; Heizung bis 600°C ±1°C; negativer Bias -200 V
• Gaskontrolle: 2‑kanalige Massendurchflussregler
• Steuerung: computergestützte Steuerung für Rotation, Blendenumschaltung und Zielpositionierung
• Aufstellfläche: Gehäuse 1300 × 800 mm²; Schaltschrank 700 × 700 mm² (zwei Stück)