- Industrielle Maschinen und Anlagen
- Betriebsmittel für Oberflächenbearbeitung
- Vakuum-Beschichtungsanlage / für Elektronik
- Xiamen Dexing Magnet Tech. Co., Ltd.
Vakuum-Beschichtungsanlage für Elektronenkanone DXD-500für kleine Losgrößenfür Elektronik
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Eigenschaften
- Merkmal
- für Elektronenkanone, für kleine Losgrößen, für Elektronik
Beschreibung
Übersicht
Zusammensetzung
Technische Kennwerte
Technische Spezifikationen
- Das DXD-500 Elektronenstrahl-Evaporations-Beschichtungssystem ist für die Herstellung von elektrisch leitfähigen Schichten, Halbleiterschichten, ferroelektrischen Schichten und optischen Dünnschichten konzipiert. Es ist für wissenschaftliche Forschung und Kleinserienproduktion an Universitäten und Forschungseinrichtungen vorgesehen.
Zusammensetzung
- Das System besteht aus der Evaporations-Vakuumkammer, E-förmiger Elektronenkanone, Heiz-Evaporations-Elektrode, beheizter Rotationsplatte für Substrate, Arbeitsgaskreislauf, Pumpsystem, Vakuummess- und elektronischem Steuersystem, Montagetechnik und zugehörigem Zubehör.
Technische Kennwerte
- Modell: DXD-500
- Aufbau: U-förmiger Kasten mit Fronttür; Pumpsystem hinten angebracht.
- Innenabmessung der Vakuumkammer: 500 × 500 × 600 mm3
- Konfiguration des Vakuumsystems: kombinierte Molekularpumpe, mechanische Pumpe, Schieber
- Enddruck: ≤ 6,67×10^-5 Pa (nach Backen und Ausgasen)
- Vakuum-Wiederherstellungszeit: erreicht 6,67×10^-4 Pa in 45 Min. (nach kurzer Luftbelichtung und Einleitung von trockenem Chlor vor dem Evakuieren)
- Elektronenstrahl-Evaporationsquelle: E-förmige Elektronenkanone — positive Polspannung: 6 kV, 8 kV
- Anzahl der Evaporationsquellen: 2 elektronische Strahlquellen
- Tiegel: wassergekühlter Tiegel, Vierloch-Design; Fassungsvermögen je: 11 ml
- Leistung der Elektronenkanone: 0–6 kW einstellbar
- Optionale Widerstandsevaporationsquelle: Spannungsoptionen 5 V, 10 V; Strom: 300 A; max. Ausgangsleistung: 3 kW; Menge: 1 Satz (konfigurierbar)
- Wassergekühlte Elektrode: 3 Stück (kann in 2 Verdampferschalen angeordnet werden)
- Substrathandling: nimmt bis zu 4-Zoll-Substrate auf; max. Substrattemperatur: 800 °C ± 1 °C; kontinuierliche Rotation: 5–60 rpm; einstellbarer Abstand Substrat-Quelle: 300–350 mm; inkl. manueller Probensperre (1 Satz)
- Luft-/Gaskreislauf: Massenstromregler — 1 Kanal
- Quarzkristall-Dickenkontroller: Anzeige-Bereich der Monitor-Dicke: 0–99.999 Å (wie geliefert)
- Stellfläche / Hauptgerät Fußabdruck: 900 × 800 mm2
- Fußabdruck des Elektronik-Schranks: 800 × 800 mm2 (2 Sätze)
Technische Spezifikationen
- Modell: DXD-500
- Innenmaß der Kammer: 500 × 500 × 600 mm3
- Endvakuum: ≤ 6,67×10^-5 Pa (nach Backen und Ausgasen)
- Evaporationsquellen: 2 E-förmige Elektronenstrahlkanonen (positive Polspannung 6 kV oder 8 kV); optionale Widerstandsquelle (5/10 V, bis zu 3 kW)
- Leistungsbereich Evaporation (E-Kanone): 0–6 kW (einstellbar)
- Substratträger: bis zu 4-Zoll-Substrate, kontinuierliche Rotation 5–60 rpm, max. Substrattemperatur 800 °C ± 1 °C
- Abstand Substrat-Quelle: einstellbar 300–350 mm
- Pumpen: kombinierte Molekularpumpe + mechanische Pumpe mit Schieber
- Steuerung / Überwachung: Vakuummess- und elektronisches Steuersystem; Quarzkristall-Dickenmonitor
- Aufstellmaß: Hauptgerät 900 × 800 mm2; Steuerungsschränke 2 × (800 × 800 mm2)
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* Die Preise verstehen sich ohne MwSt., Versandkosten und Zollgebühren. Eventuelle Zusatzkosten für Installation oder Inbetriebnahme sind nicht enthalten. Es handelt sich um unverbindliche Preisangaben, die je nach Land, Kurs der Rohstoffe und Wechselkurs schwanken können.