- Industrielle Maschinen und Anlagen
- Betriebsmittel für Oberflächenbearbeitung
- Vakuum-Beschichtungsanlage
- Xiamen Dexing Magnet Tech. Co., Ltd.
Vakuum-Beschichtungsanlage DXALD
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Beschreibung
Übersicht
Technische Kennwerte
Eigenschaften / technische Spezifikationen
- Das Gerät zur Herstellung einzelner Atomschichten (DXALD) ist ein System der Atomlagenabscheidung (ALD), entwickelt für die präzise, kontrollierbare Abscheidung dünner Schichten aus Metallen, Oxiden, Karbiden sowie verschiedenen Halbleiter‑ oder Supraleitermaterialien für Forschung und Lehre an Hochschulen und wissenschaftlichen Einrichtungen.
- Das System bietet flexible Prüfparameter, zuverlässigen Betrieb und eine benutzerfreundliche Mensch‑Maschine‑Schnittstelle zur Erfüllung komplexer Beschichtungsanforderungen in Forschungs‑ und Lehrumgebungen.
- DXALD ist hauptsächlich für die Herstellung dielectricher Filme wie transparente leitfähige Oxide und Al2O3 ausgelegt; ZnO dient als repräsentatives Beispielmaterial.
Technische Kennwerte
- Endvakuum: 5 Pa
- Gesamtleckrate: < 10^-8 Pa·L/s
- Vakuumkammer:
- Vakuumhohlraum: Vakuumhohlraum
- Material / Aufbau: argonlichtbogengeschweißter Edelstahl mit abnehmbarem Oberdeckel
- Unterer Auslass: Anschluss an Trockenlauf-Vakuumpumpe
- Substratheizung: Außenheizsystem, Temperaturbereich Raumtemperatur bis 500 °C, stufenlos und einstellbar
- Substratgröße: Ø 50–100 mm
- Dickenuniformität: für Ø 100 mm ZnO‑Film, Dickenuniformität < ±1%
- ALD‑Gastransport / Gasleitungen:
- Flüssigquellkreis: kundenspezifisch
- Gasquellkreis: kundenspezifisch
- Vakuum‑Abgassystem:
- Beidseitige ölfreie Trocken-Vakuumpumpe: 1 Satz
- Vakuumleitung: 1 Satz
- Vakuumüberwachung: Pirani‑Messgerät — Messbereich: 1,0×10^-5 Pa bis 1×10^-2 Pa
- Datenerfassung und HMI: 1 Satz
- Computersteuerung / Netzteile und Steuerungen:
- Heiznetzteil Probe: 1 Satz
- Magnetische Umschaltdrossel/Valve: 1 Satz
- Hauptsteuernetzteil: 1 Satz
- Installationsgestell: geschweißter Stahl, Schnellspann‑Maske; Fahrgestell fixier‑ und bewegbar
- Anlagenabmessungen (L×B×H): 600 × 600 × 1200 mm
Eigenschaften / technische Spezifikationen
- Modellreihe: DXALD (Single Atomic Layer Film Growing Equipment)
- Endvakuumkapazität: 5 Pa
- Leckrate: < 10^-8 Pa·L/s
- Unterstützte Substratgröße: Ø 50–100 mm
- Substratheizbereich: Raumtemperatur bis 500 °C (stufenlos, einstellbar)
- Vakuumableitung: ölfreie Trocken-Vakuumpumpe (1 Satz)
- Typische Aufstellfläche: 600 × 600 × 1200 mm
- Beispiel Zielschicht und Uniformität: ZnO auf Ø 100 mm, Dickenuniformität < ±1%
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Vacuum Equipment
* Die Preise verstehen sich ohne MwSt., Versandkosten und Zollgebühren. Eventuelle Zusatzkosten für Installation oder Inbetriebnahme sind nicht enthalten. Es handelt sich um unverbindliche Preisangaben, die je nach Land, Kurs der Rohstoffe und Wechselkurs schwanken können.