Sputter-Auftragsmaschine / mit Magnetron DXMS-450C

Metallisierung

Das DXMS-450C ist ein Magnetron-Sputter-PVD-System für den Laborbereich, ausgelegt zur Herstellung nano- und mikrostrukturierter Dünnschichten (Metalle, Halbleiter, Dielektrika, Oxide, Nitride). Es unterstützt Einzelzielbetrieb, sequentielle Zielwechsel und Dual-Target Co-Sputtering und integriert Vakuum-, Gas-, Energie- und Steuerungssysteme für Forschung und Kleinserienproduktion.

Systemaufbau

• Beschichtungs-kammer: birnenförmige Sputterkammer, Φ450 mm × H460 mm, SUS304 Edelstahl; obere Abdeckplatte mit großer elektrischer Flansch.
• Magnetron-Schnittstellen: zwei 4-Zoll-Magnetronanschlüsse auf der Bodenplatte; verstellbare Targetköpfe; RF- und DC-kompatibel, wassergekühlt; Einzel- oder Doppelzielbetrieb.
• Probenhalter/Substrattisch und Heizeinheit.
• Arbeitsgas-Kreislauf: Massenstromregelung für Ar und O2 plus N2-Pfad; drei Gaskanäle führen über ein CF16 UHV-Absperrventil in die Kammer.
• Netz- und Steuerungsschränke sowie Vakuumsystem (Turbomolekular + mechanische Pumpe) mit Vakuum-Messtechnik.

Vakuumerzeugung und Messung
Das System verwendet eine turbomolekulare Pumpe (FF-160/620, wassergekühlt) mit einer 8 L/s mechanischen Vorpumpe und erreicht ein Endvakuum besser als 8×10^-5 Pa. Die Vakuummessung erfolgt über ein digitales Verbund-Vakuummeter. Molekularpumpen-Portventil: manuelles Schieberventil GV150.

Probenhalter-Baugruppe

• Durchmesser Substrattisch: Φ150 mm — nimmt ein 2–6-Zoll-Substrat oder mehrere kleine Substrate auf.
• Max. Substrat-Heiztemperatur: ≥500 ℃; Heizer aus oxidationsbeständigem Material; ausgewählter Temperaturregler (japanische Marke).
• Substratrotation: autonome Rotation, regelbar 2–10 U/min.
• Ein Probenblende-Satz wird geliefert; Negativbias verfügbar 0–200 V.

Magnetron-Targets & Beschichtungsuniformität

• Zwei 4-Zoll-wassergekühlte Magnetron-Targets auf der Bodenplatte mit einstellbarem Winkel; RF- und DC-kompatibel; Einzel- oder Dual-Target-Betrieb möglich.
• Beschichtungsuniformität: innerhalb des 5-Zoll-Wirksbereichs ≤ ±5 %; innerhalb des 2-Zoll-Wirksbereichs ≤ ±3 %.

Gaszufuhr
Drei Einlass-Gaswege mit Massenstromreglern (Ar, O2 und ein N2-Weg); alle drei Kanäle führen über ein CF16 UHV-Absperrventil in die Kammer.

Beschichtungsnetzteile

• RF-Netzteil: 500 W mit automatischer Anpassung (Hergestellt in China).
• DC-Netzteil: 1000 W (Hergestellt in China).

Vakuumpumpen & Ventile

• Turbomolekularpumpe: FF-160/620 (wassergekühlt) — 1 Set.
• Mechanische Pumpe: 8 L/s — 1 Set.
• Haupt-Vakuumventil: GV150 aus Edelstahl — 1 Set.
• Leitungen: DN40 metallwellrohr und KF40-Winkelventile nach Bedarf.
• Digitales Verbund-Vakuummeter: Modell ZDF-5227 — 1 Set.

Systemsteuerung & Elektrik

• Netzanforderung: 380 V / 50 Hz Dreiphasen Fünfleiter mit FI-Schutz; Erdung von Gerät und Schaltschränken; typische Systemleistung ~5 kW.
• Zwei internationale Standardstrom/Steuerschränke mit Hauptnetzteil, digitalem Vakuummeter, Heizungsregler für den Substrattisch, Antriebsspannung für den Rack, Kammerbeleuchtung, Turbomolekularpumpenstrom, RF- und DC-Beschichtungsspannungen.

Konfigurationsliste (Auszug)

• Vakuumkammer (Φ450 × H460 mm), oberer Deckel, SUS304 Edelstahl — Set ×1 — Hersteller: DEXINMAG
• Beobachtungsfenster (seitlich, Φ100 mm) — EA ×2 — DEXINMAG
• Turbomolekularpumpe (FF-160/620, wassergekühlt) — Set ×1 — Hergestellt in China
• Mechanische Pumpe (8 L/s) — Set ×1 — Hergestellt in China
• Vakuumhauptventil GV150 (Edelstahl) — Set ×1 — DEXINMAG
• Digitales Verbund-Vakuummeter (ZDF-5227) — Set ×1 — Hergestellt in China
• Gas-Massenstromregler (D07-7, 3-Wege MFC) — Set ×1 — Hergestellt in China
• Magnetron-Sputtertargets (4 Zoll, wassergekühlt) — Set ×2 — DEXINMAG
• Substrattisch Φ150 mm, beheizbar bis 500 ℃, selbstrotierend, bias-fähig — Set ×1 — DEXINMAG
• RF-Netzteil 500 W (Auto-Match) — Set ×1 — Hergestellt in China
• DC-Netzteil 1000 W — Set ×1 — Hergestellt in China

Ersatzteile / Verbrauche

• O-Ringe (Fluorkautschuk), Kupferringe (CF-Größen CF16–CF200) und Standard-Edelstahlbefestigungen werden von DEXINMAG als Ersatzteile geliefert.
• Glasliner-Rohre, Backlampen, Ofendraht, Sicherungen und Pneumatikanschlüsse sind in der Ersatzteilliste enthalten.

Benutzer-Vorbereitung & Installationsanforderungen
Endanwender müssen Laborversorgungen bereitstellen (Kühlwasser, Strom, Druckluft), Substrate und Target-Materialien sowie Prozessgase (hochreines Argon usw.).

• Gerätefläche: 2,0 m (L) × 1,5 m (B); empfohlener Mindestraum: 3,5 m × 3,5 m × 2,4 m (H). Laboreingang ideal ≥ 1,85 m (H) × 0,95 m (B); geeigneter Boden (Terrazzo oder lackiertes Holz), saubere Umgebung ohne korrosive Staub-/Gase.
• Umgebungstemperatur: 10 ℃ – 30 ℃; Luftfeuchtigkeit ≤ 70%.
• Stromversorgung: ~5 kW, 380 V Dreiphasen Fünfleiter mit Erdung.
• Kühlwasser: Zulauftemperatur ≤ 20 ℃; Zulaufdruck 0,2–0,3 MPa; Durchfluss ≥ 0,8 m3/h.
• Der Abluftanschluss der mechanischen Pumpe benötigt einen Abgasrohr.

Technische Daten

• Modell: DXMS-450C.
• Kammergröße: Φ450 mm × H460 mm; Material: SUS304 Edelstahl.
• Turbomolekularpumpe: FF-160/620 (wassergekühlt); mechanische Pumpe: 8 L/s.
• Endvakuum: besser als 8×10^-5 Pa.
• Beobachtungsfenster: Φ100 mm ×2 mit manuellen Blenden.
• Substrattisch: Φ150 mm; Heizung ≥ 500 ℃; Rotation 2–10 rpm; Bias 0–200 V.
• Targets: zwei 4-Zoll wassergekühlte Magnetron-Targets (RF & DC kompatibel).
• Beschichtungsleistung: RF 500 W (Auto-Matching), DC 1000 W.
• Beschichtungsuniformität: ≤ ±5% (5-Zoll-Bereich); ≤ ±3% (2-Zoll-Bereich).
• Gassteuerung: 3-Kanal MFC (Ar, O2, N2) gespeist über CF16-Ventil.
• Stromversorgung: 380 V / 50 Hz Dreiphasen; empfohlene Systemleistung ~5 kW.
• Kühlwasseranforderungen: Zulauf ≤ 20 ℃, Druck 0,2–0,3 MPa, Durchfluss ≥ 0,8 m3/h.