Vakuum-Beschichtungsanlage DXD-450

Der DXD-450 ist ein einkammeriges Vakuumbeschichtungssystem für thermische Verdampfung, ausgelegt zum Auftrag von Metall-, Halbleiter-, Oxid‑ und organischen Dünnfilmen für Forschung, Technologieentwicklung und Vorserientests.

Zusammensetzung

• Evaporationskammer für organische/Metall‑Quellen
• Vakuum‑Abgasystem
• Vakuummesssystem
• Evaporationsquellen
• Probenheizung und Temperaturregelung
• Elektronisches Steuersystem
• Verteilungssystem

Technische Daten

• Modell: DXD-450
• Hauptvakuumkammer: quadratische Kammer, Größe 400 × 400 × 400 mm
• Konfiguration des Vakuumsystems: Drehschieberpumpe, Molekularpumpe, Schieber
• Enddruck: ≤ 6×10⁻⁵ Pa
• Vakuumerholung: erreicht 9×10⁻⁴ Pa in 40 Minuten (nach kurzer Luftbelastung und Aufblasen mit trockenem Chlor und anschließendem Beginn der Evakuierung)
• Substrat‑Heizplatte:
  • Probenmaß: 120 × 120 mm, 1 Stück
  • Bewegungsart: Hub 0–50 mm; kontinuierliche Rotation, Geschwindigkeit 5–30 rpm
  • Max. Substrattemperatur: 800℃ ±1℃; Abstand Substrat–Evaporationsquelle: 250–300 mm
• Widerstandserwärmte Evaporationseinheit für organische Materialien:
  • Tiegelkapazität: ≥ 2 cc
  • Temperaturbereich: RT–500℃, stufenlos einstellbar
  • Leistung: Strom 300 A, max. Ausgangsleistung 3 kW
  • Wassergekühlte Elektroden: 4 Stück, konfigurierbar zu 2 Evaporationsbooten
• Quarz‑Kristall‑Dickenmessung: Anzeigeumfang 0–99μ9999 Å
• Luftkreissystem: Massenflussregler, 1 Kanal
• Laser‑Beam‑Scanning‑Einheit: zweidimensionaler mechanischer Scanning‑Tisch für bidirektionales Scannen
• Computersteuerung: steuert Zielplattenrevolution, Zielrotation, Probendrehung, Probentemperatur, Laser‑Scanning und zugehörige Funktionen
• Stellfläche:
  • Hauptgerät: 2450 × 1250 mm² (separater Gestell 770 × 600 mm²). Größe kompatibel mit Handschuhkasten 1830 × 750 mm²
  • Elektronikschrank: 700 × 700 mm² (1 Stück)

Eigenschaften / Technische Spezifikationen

• Modell: DXD-450
• Kammergröße: 400 × 400 × 400 mm
• Endvakuum: ≤ 6×10⁻⁵ Pa
• Max. Substrattemperatur: 800℃ ±1℃
• Probenplatte: 120 × 120 mm (einzelnes Stück), Rotation 5–30 rpm, Hub 0–50 mm
• Evaporationsabstand: 250–300 mm
• Tiegelkapazität: ≥ 2 cc; Temperaturbereich RT–500℃ (einstellbar)
• Evaporationsversorgung: 300 A, max. 3 kW
• Dickenüberwachung: Quarz‑Kristall‑Controller, Bereich bis 99μ9999 Å
• Stellfläche (Hauptgerät): 2450 × 1250 mm²; Elektronikschrank 700 × 700 mm²