Sputter-Auftragsmaschine / mit Magnetron DXT-450

Übersicht
Das Magnetronsputter-System ist eine PVD-Beschichtungsanlage zur Herstellung einer Vielzahl von Dünnschichtmaterialien, einschließlich nanoskaliger Mono- und Mehrschicht-Funktionsfilme, Hartbeschichtungen, Metallfilme, Halbleiterfilme und dielektrische Filme. Geeignet für Dünnschichtforschung und Kleinserienfertigung an Universitäten und Forschungseinrichtungen.

Hauptkomponenten

• Vakuum-Sputterkammer: zylindrische Frontöffnung, Abmessung Ø450×400 mm
• Dauerhaft magnetronische Targets: drei permanente Targets; Target-Durchmesser Ø60 mm (ein Target für magnetische Materialien geeignet)
• Einzonenheizung (max. 600°C ±1°C)
• DC- und RF-Netzteile
• Arbeitsgas-Kreislauf mit 2-Kanal Massenstromregelung
• Vakuumpumpsystem: zusammengesetzte Molekularpumpe + Drehschieber-/mechanische Pumpe; pneumatisches Schieberventil; importierter SMC-Zylinderdrossel
• Vakuummessung und elektronische Steuerung: SPS (PLC) + Industrie-PC + Touchscreen

Technische Daten

• Enddruck: ≤6,6×10^-6 Pa (nach Backen und Entgasen)
• Vakuum-Wiederherstellungszeit: 25 min bis 6,6×10^-4 Pa (nach Luftkontakt und Trockenspülung)
• Target-Kompatibilität: DC- und RF-Sputtern; wassergekühlte Targets
• Target-Anordnung: drei Targets können gemeinsam über die Probenmitte ausschwenken; einstellbarer Target–Proben-Abstand 90–130 mm
• Drehverschluss: jedes Target mit importiertem SMC rotierendem Pneumatikblende ausgestattet
• Probengröße: Ø4 Zoll
• Substratbewegung: kontinuierliche Rotation, Drehzahl 0–30 rpm
• Gaskontrolle: Steuerung mit importiertem SMC-Eckenzylinder; Massenflussregler, 2 Kanäle
• Computersteuerung: SPS + Industrie-PC + Touchscreen im Automatikmodus

Anwendungen

• Dünnschichtmaterialforschung, F&E an Universitäten und Forschungsinstituten
• Kleinserienfertigung von nanoskaligen Mono- und Mehrschichtfilmen, funktionalen Beschichtungen und Halbleiterfilmen

Optionen & Stellfläche

• Optionale Zubehörteile: Schichtdickenmessgerät, zusätzliche Pumpen, Kühlwasser-Umwälzgerät
• Stellfläche: Hauptgerät 1,0 m × 1,8 m; Schaltschrank 0,9 m × 0,6 m