Eutektischer Diebonder FiNEXT P3
UltraschallEpoxiautomatisiert

Eutektischer Diebonder - FiNEXT P3 - Finetech - Ultraschall / Epoxi / automatisiert
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Eigenschaften

Technologie
eutektisch, Ultraschall, Epoxi
Funktionsweise
automatisiert
Anwendung
MEMS, für Sensor, für Wafer, für die Halbleiterindustrie, für den Kommuikationsbereich
Weitere Eigenschaften
Hochpräzision, konfigurierbar, Großflächen
Plaziergenauigkeit

Min: 3 µm

Max: 3 µm

Beschreibung

Übersicht
Der FiNEXT P3 ist eine Produktionsplattform der nächsten Generation für Die-Bonding, ausgelegt für 12-Zoll-Wafer. Sie vereint Ultraschall-, Klebstoff- und eutektische Bonding-Verfahren, um stabile Ausbeuten, gleichbleibende Qualität und erhöhten Durchsatz in variantenreichen Großserien zu gewährleisten. Entwickelt für nahtloses Skalieren vom Pilotbetrieb zur Vollproduktion und für Advanced Packaging- sowie Halbleiter-Assemblies.

Hauptvorteile
  • Konsolidiert mehrere Bonding-Werkzeuge und Prozesse in einem System, geeignet für hohe Variantenvielfalt.
  • Sichert stabile Ausbeuten und konstante Produktionsqualität über Schichten hinweg.
  • Verringert Rüstzeiten und erhöht den Durchsatz bei Mischserien.

Bonding-Technologien & Prozessflexibilität
  • Unterstützt Ultraschall-Bonding, Klebstoff-Bonding und eutektisches Bonding in einer Plattform.
  • Multi-Prozess-Fähigkeit minimiert Transfers zwischen Systemen und senkt das Handling-Risiko.
  • Modulare Architektur ermöglicht den Wechsel zwischen Bonding-Methoden und Packaging-Stilen.

Durchsatz, Automatisierung & Handling
  • 12-Zoll-Wafer-ready: unterstützt große Wafer und kontinuierliche Mischserien bei maximaler Verfügbarkeit.
  • Automatisiertes Wafer-Loading und schonende Die-Verwaltung entlasten Bediener für höherwertige Aufgaben.
  • Sensible Die-Handhabung schützt empfindliche Bauteile wie MEMS, Photonik und Laserdioden.

Präzision & Prozesssteuerung
  • Positioniergenauigkeit: 3 µm Positioniergenauigkeit zur Verringerung von Fehlern, Steigerung der Ausbeute und Reduzierung von Nacharbeit.
  • Enge Ausrichttoleranzen und Prozessstabilität, geeignet für Advanced Packaging und photonische Integration.
  • Konzipiert, um Variation durch Inter-Tool-Transfers zu minimieren und die Reproduzierbarkeit vom Pilotbetrieb zur Produktion zu verbessern.

Anwendungen
  • Optische Transceiver und photonische Komponenten
  • microLED-Assembly und Displays
  • LiDAR- und Radar-Module
  • MEMS- und Sensorassemblies
  • Leistungshalbleiter (SiC, GaN)
  • Heterogene und hochdichte Packaging-Lösungen

Software & Fabrikintegration
  • Produktionssoftware zur Konfiguration von Workflows, Produktionsverfolgung und Output-Optimierung.
  • Für die Shop-Floor-Integration ausgelegt, mit Produktions-Tracking und einfacher Prozesskonfiguration.

Entwicklung & Verfügbarkeit
  • Positioniert als Next-Generation-Produktionsplattform mit Beta-Prototypen und verfolgten Entwicklungsmeilensteinen.
  • Entwickelt, um Herstellern die Konsolidierung diverser Advanced-Packaging-Prozesse zu ermöglichen und komplexe Microsystemassemblies in Volumen zu skalieren.

Technische Spezifikationen
  • Modellname: FiNEXT P3
  • Wafer-Fähigkeit: 12-Zoll-Wafer-Bearbeitung
  • Unterstützte Bonding-Methoden: Ultraschall, Klebstoff, eutektisch
  • Positioniergenauigkeit: 3 µm
  • Automatisierung: automatisiertes Wafer-Loading und schonende Die-Handhabung
  • Zielanwendungen: optische Transceiver, microLED, LiDAR, Radar, MEMS, Leistungshalbleiter (SiC/GaN), Photonik, heterogene Packages
  • Primäre Ziele: stabile Ausbeuten, konstante Qualität, skalierbare Produktion für variantenreiche Großserien
  • Plattformmerkmale: modulare Multi-Prozess-Fähigkeit, Produktions-Workflow-Software, Prozess-Tracking und -Optimierung

Kataloge

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* Die Preise verstehen sich ohne MwSt., Versandkosten und Zollgebühren. Eventuelle Zusatzkosten für Installation oder Inbetriebnahme sind nicht enthalten. Es handelt sich um unverbindliche Preisangaben, die je nach Land, Kurs der Rohstoffe und Wechselkurs schwanken können.