Plasma-Generator / Hoch -PE-CVD TruPlasma DC Series 4000 (G2)

PVD

Kurzbeschreibung
Die TruPlasma DC Serie 4000 (G2) ist ein gepulstes DC-Netzteil, entwickelt für reaktives DC-Sputtern anspruchsvoller Materialien. Es unterstützt sowohl gepulsten als auch Bias-Betrieb und liefert stabile Plasmaeigenschaften für kritische PVD- und PECVD-Prozesse, bei minimierten Arc-bedingten Stillstandszeiten und reduziertem Substratschaden.

Tagline
Gepulste Prozesse für brillante Oberflächen

Leistungsmerkmale

• Digitale Signalverarbeitung für stabile Plasmaführung und reduzierte Arc-bedingte Zeitverluste.
• Schnelles Arc-Handling mit geringer Arc-Energie zur Minimierung von Substratschäden und Oberflächendefekten.
• Weites, einstellbares Pulsfrequenzspektrum und konfigurierbare Reverse-/Bias-Spannung zur flexiblen Prozessanpassung.
• Kompaktes, robustes Gehäuse mit integrierter Wasserkühlung zur Platz- und Wartungseinsparung.
• Duale Funktionalität: Puls- und Bias-Betrieb in einem Gerät.

Anwendungen

• Hartstoffbeschichtungen: stabiler Plasmaeinsatz für hohe Oberflächenhärte und verbesserte thermische/chemische Beständigkeit.
• Metallisierung (PVD): Abscheidung hauchdünner homogener Metallschichten für optische und elektrische Eigenschaften.
• Photovoltaik: geeignet für TCO- und leitfähige Schichten mit niedrigen Arc-Energie-Anforderungen.
• Architekturglas: großflächige PVD-Beschichtungen mit hohen Anforderungen an die Prozessstromversorgung.

Kundennutzen

• Verbesserte Schichtqualität und Produktivität durch reduzierte Tropfenrate, weniger Oberflächendefekte und höhere Abscheideraten.
• Flexible Prozessanpassung durch einstellbare Pulsparameter und Bias-Betrieb für unterschiedliche Anwendungen.
• Ausgefeilte Monitoring- und Diagnosewerkzeuge zur Prozessoptimierung und Minimierung von Ausfallzeiten.

Optionen

• Parallelbetrieb und Synchronisation mehrerer Generatoren, einschließlich synchronisierter Arc-Erkennung und Pulsmodus-Abstimmung für Mehrzielsysteme.

Software
PVD Power: Mehrsprachige, benutzerfreundliche Software für Bedienung, Konfiguration und Diagnose. Anzeige von Prozesswerten, Warnungen/Alarmen, Setpoint-Vorgabe sowie Aufzeichnung/Visualisierung von Betriebsparametern mit hoher zeitlicher Auflösung (Oszilloskop-Funktion).

Technische Spezifikationen

• Technologie: Gepulster Gleichstrom (pulsed DC) für reaktives DC-Sputtern; Bias-Betrieb unterstützt.
• Betriebsarten: gepulst und Bias (beide Modi in einem Gerät).
• Arc-Management: digital, schnelle Arc-Behandlung mit geringer Arc-Energie.
• Prozesssteuerung: digitale Signalverarbeitung; breites einstellbares Pulsfrequenzspektrum; einstellbare Reverse-Voltage.
• Kühlung: integrierter Wasserkühler für kompakte Installation und verminderten Wartungsaufwand.
• Skalierbarkeit: paralleler Betrieb und Synchronisation mehrerer Einheiten möglich.
• Software: PVD Power für Bedienung, Konfiguration, Diagnose und oszilloskopartige Datenaufzeichnung/Visualisierung.
• Typische Anwendungen: PVD/PECVD-Hartbeschichtungen, Metallisierung (TCO), Photovoltaikzellenproduktion, großflächige Architekturglasbeschichtung.