Plasma-Generator / Industrie TruPlasma RF Air Sériés 1000
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Plasma-Generator / Industrie - TruPlasma RF Air Sériés 1000 - TRUMPF lasers - zur Oberflächenbearbeitung / PC-steuerbar / programmierbar
Plasma-Generator / Industrie - TruPlasma RF Air Sériés 1000 - TRUMPF lasers - zur Oberflächenbearbeitung / PC-steuerbar / programmierbar
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Eigenschaften

Typ
Industrie, zur Oberflächenbearbeitung, PC-steuerbar, programmierbar, Radiofrequenz
Aushärtegeschwindigkeit
PVD, Hoch -PE-CVD

Beschreibung

Kurzbeschreibung
Der luftgekühlte HF‑Generator TruPlasma RF 1001 Air liefert bis zu 1000 W präzise dosierter, reproduzierbarer HF‑Leistung mit 0,1 W Auflösung (100 mW‑Schritte). Entwickelt für die Halbleiter‑, Solar‑ und Display‑Fertigung, vereint er die patentierte TRUMPF Hüttinger Technologie und CombineLine‑Anpassung für stabile Plasmaprozesse.

Hauptmerkmale
  • Smart Auto Frequency Tuning (AFT): schnelle, optimale Frequenzanpassung zwischen Generator und Matchbox.
  • Hochgenaues Arc‑Management: Früherkennung von Arcs und Schutz für empfindliche Prozesse.
  • Multi‑Level Pulsing: konfigurierbare mehrstufige Pulsformen für erweitertes Prozess‑Tuning.
  • Plug & Play‑Modularität: ½‑19‑Zoll Einschub für einfachen Austausch und Retrofit.
  • Echte 50 Ω‑Ausgangsimpedanz (CombineLine): gleichmäßige Prozessleistung und geringere Anfälligkeit für Laständerungen.
  • Einheitliche Generatorenfamilie: gleiche Technologie in verschiedenen Leistungsklassen für vereinfachte Integration.
  • Unabhängig von HF‑Kabellänge: keine Anpassung der Kabellänge nach Systemänderungen erforderlich.


Anwendungen
  • Reactive‑Ion Etching (RIE)
  • Atomic Layer Deposition (ALD)
  • Plasma‑Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD)
  • RF‑Sputtern
  • Fertigung von Halbleitern, MEMS, Flachbildschirm‑Beschichtungen und Solarzellen


Kundennutzen & Systemfunktionen
  • Hohe Reproduzierbarkeit: Energiedosierung in 100 mW‑Schritten für beste Wafer‑to‑Wafer‑Konsistenz.
  • Kompakte, platzsparende Bauweise: ½‑19‑Zoll Einschub, geeignet für Neuinstallationen und Retrofit.
  • Vielzahl an Schnittstellen zur Integration: konfigurierbare Analogschnittstelle, Ethernet, DeviceNet, PROFIBUS, EtherCAT.
  • TRUMPF SystemPort‑Support: Regelung im geschlossenen Kreis, Echtzeit‑RF‑Messung an Ein‑/Ausgang der Matchbox, Schutzfunktionen und Prozessüberwachung.
  • Digitale Prozessfunktionen: AFT 2.0, Arc‑Management, Multi‑Level Pulsing zur feinen Anpassung an Prozessanforderungen.


Technische Daten
  • Leistungsbereich: bis zu 1000 W (TruPlasma RF 1001 Air)
  • Leistungsauflösung: 0,1 W (100 mW‑Schritte)
  • Kühlung: luftgekühlt
  • Ausgangsimpedanz: echte 50 Ω (CombineLine‑Technologie)
  • Pulsbetrieb: Multi‑Level, frei wählbare Pulsformen
  • Auto Frequency Tuning: Smart AFT für schnelle Abstimmung Generator–Matchbox
  • Formfaktor: kompakter ½‑19‑Zoll Einschub
  • Schnittstellen: konfigurierbare Analogschnittstelle, Ethernet, DeviceNet, PROFIBUS, EtherCAT
  • Systemsteuerung: TRUMPF SystemPort für geschlossene Regelung und Echtzeitmessung

Kataloge

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* Die Preise verstehen sich ohne MwSt., Versandkosten und Zollgebühren. Eventuelle Zusatzkosten für Installation oder Inbetriebnahme sind nicht enthalten. Es handelt sich um unverbindliche Preisangaben, die je nach Land, Kurs der Rohstoffe und Wechselkurs schwanken können.