Radiofrequenz Plasma-Generator TruPlasma RF Series 3000
PC-steuerbarHochfrequenzIndustrie

Radiofrequenz Plasma-Generator - TruPlasma RF Series 3000 - TRUMPF lasers - PC-steuerbar / Hochfrequenz / Industrie
Radiofrequenz Plasma-Generator - TruPlasma RF Series 3000 - TRUMPF lasers - PC-steuerbar / Hochfrequenz / Industrie
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Eigenschaften

Typ
Radiofrequenz, PC-steuerbar, Hochfrequenz, Industrie, zur Oberflächenbearbeitung, programmierbar
Aushärtegeschwindigkeit
Hoch -PE-CVD, PVD

Beschreibung

Kurzbeschreibung
HF-Technologie ohne Kompromisse. Die TruPlasma RF Serie 3000 ist eine robuste, hocheffiziente Hochfrequenz-Generatorfamilie für stabile, reproduzierbare Plasmaprozesse, wie sie z. B. bei der Herstellung von Flachbildschirmen, Solarzellen oder Halbleitern eingesetzt werden. Weltweit in tausenden Anwendungen installiert und ausgelegt auf hohe Produktivität und herausragende Prozessergebnisse.

Hauptmerkmale
  • Hohe Effizienz: Wirkungsgrade bis zu 80 % zur Reduktion von Energiekosten und Kühlwasseraufwand.
  • CombineLine-Technologie: Zuverlässiger Schutz gegen reflektierte Leistungen bei Fehlanpassung, echte 50-Ohm-Ausgangsimpedanz für stabile Prozesse.
  • Exzellentes RF-Arc-Management für sichere Führung anspruchsvoller und neuartiger Prozesse.
  • Robuste Bauweise und hohe Prozessstabilität, ausgelegt auf lange Betriebszeiten und hohe Beschichtungsraten.
  • Flexible Leistungsabgabe: kontinuierlich oder gepulst einstellbar.
  • Sicherheit: 100%-Fehlanpassungsschutz für sicheren Betrieb bei kritischen Lasten.

Anwendungen
  • Ätz- und Beschichtungsprozesse (Plasmaätzen, reaktives Ionenätzen, ALD, PECVD).
  • Beschichtung von Flachbildschirmen und Solarzellen (z. B. RIE, ALD, PECVD, RF-Sputtern).
  • Beschichtung und Strukturierung von Metallwerkstücken (Verschleißschutzschichten, Fotolack-Plasmaveraschung).

Software / Systemfunktionen
  • TruControl Power: anwenderfreundliche Steuerungssoftware für komfortable Inbetriebnahme und sichere Überwachung des HF-Generators und des RF-Systems im laufenden Prozess.
  • TRUMPF SystemPort: geschlossener Regelkreis durch Messung des RF-Signals an Eingang und Ausgang der Matchbox; ermöglicht umfassende Prozessüberwachung, Schutz der Matchbox und frühzeitige Arc-Erkennung; Steuerung des kompletten RF-Systems über eine Generatorschnittstelle.

Systemkomponenten und Optionen
  • TruPlasma Match Anpassnetzwerke (Matchbox) zur optimalen Anpassung an 50 Ohm und für präzisen Leistungstransfer.
  • Masteroszillatoren zur Stabilisierung kritischer synchroner Plasmaprozesse (Frequenz- und Phasensynthesizer, Phasenlage einstellbar).
  • HF-Umschalter für Mehrfachnutzung eines HF-Generators an mehreren Prozessstationen (verschiedene Leistungsklassen, 2–4 Ausgänge).
  • Koaxialkabel für HF-Leistungsübertragung, ausgelegt für den Betrieb in 50-Ohm-Systemen.
  • Optionen: Arc-Management-Module für verbesserte Arc-Erkennung und Schutz von Produkt und Anlage.

Charakteristika / Technische Spezifikationen
  • Leistungsabgabe: kontinuierlich oder gepulst (variabel, anwendungsabhängig).
  • Ausgangsimpedanz: 50 Ohm (CombineLine-Technologie).
  • Wirkungsgrad: bis zu ca. 80 % (reduziert Verlustleistung und Kühlaufwand).
  • Sicherheitsmerkmale: 100 % Fehlanpassungsschutz; robustes Gehäuse für lange Betriebszeiten.
  • Systemintegration: Schnittstellen (u. a. EtherCAT) zur einfachen Integration in Prozessumgebungen.
  • Installationsbasis: weltweit bereits zehntausende Installationen (hohe Verbreitung und Reife der Plattform).

Kataloge

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* Die Preise verstehen sich ohne MwSt., Versandkosten und Zollgebühren. Eventuelle Zusatzkosten für Installation oder Inbetriebnahme sind nicht enthalten. Es handelt sich um unverbindliche Preisangaben, die je nach Land, Kurs der Rohstoffe und Wechselkurs schwanken können.