ÜberblickDie TruPlasma Bipolar Serie 4000 (G2.1) sind bipolare Impulsgeneratoren für plasmagestützte Beschichtungsverfahren wie PVD, PECVD und reaktives Sputtern. Sie bieten formbare, konfigurierbare Ausgangssignale und ein volldigitales Arc‑Management zur Stabilisierung des Plasmas und für reproduzierbare Schichtergebnisse.
Hauptmerkmale- Volldigitales Arc‑Management mit sehr geringer Arc‑Energie zur Verbesserung der Schichtqualität.
- Einstellbare Wellenformen zur Anpassung des Ausgangssignals an verschiedene Prozesse.
- Unterstützung für DC, gepulstes DC und bipolare Betriebsarten.
- Integrierte Wasserkühlung im Gehäuse, kein externes Kühlaggregat erforderlich.
Anwendungen- PVD, PECVD und reaktive Sputterprozesse.
- Beschichtung in der Photovoltaik und Zellenfertigung.
- Halbleiterfertigung.
- Beschichtung von Architekturglas.
- Dekorative und verschleißfeste Schichten.
Kundennutzen- Konstante Schichtqualität und Produktivität durch niedrige Arc‑Energie und stabile Prozessversorgung.
- Hohe Prozessflexibilität durch einstellbare Wellenformen.
- Platzersparnis und vereinfachte Systemintegration dank integrierter Wasserkühlung.
SoftwareDie PVD Power Software (mehrsprachig) ermöglicht Bedienung, Konfiguration und Diagnose: Anzeige relevanter Prozessparameter in Echtzeit, Warn‑ und Alarmfunktionen, Vorgabe von Sollwerten durch den Anwender sowie hochauflösende Aufzeichnung/Visualisierung (Oszilloskopfunktion) zur Prozessanalyse.
Systemkomponenten- Netz‑ und Leistungskabel, Steckverbinder und Zubehör in verschiedenen Ausführungen zur Anpassung an lokale Anschlussstandards.
- Auswahlmöglichkeiten zur Anpassung des Generators an die Systemumgebung für optimale Integration.
Eigenschaften / technische Daten- Produktfamilie: TruPlasma Bipolar Serie 4000 (G2.1).
- Betriebsarten: DC, gepulstes DC, bipolar.
- Arc‑Management: volldigital, sehr geringe Arc‑Energie.
- Ausgangssignale: konfigurierbare/formbare Wellenformen.
- Kühlung: integrierte Wasserkühlung (kein externes Kühlgerät erforderlich).
- Zielprozesse: PVD, PECVD, reaktives Sputtern.
- Typische Anwendungen: Photovoltaik, Halbleiter, dekorative und verschleißfeste Beschichtungen, Architekturglas.
- Software: PVD Power (Echtzeitanzeige, Alarme, Aufzeichnung, Oszilloskopfunktion).