Plasma-Generator / Hochfrequenz TruPlasma Highpulse Series 4000 (G2)
programmierbarHochspannungautonom

Plasma-Generator / Hochfrequenz - TruPlasma Highpulse Series 4000 (G2) - TRUMPF lasers - programmierbar / Hochspannung / autonom
Plasma-Generator / Hochfrequenz - TruPlasma Highpulse Series 4000 (G2) - TRUMPF lasers - programmierbar / Hochspannung / autonom
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Eigenschaften

Typ
Hochfrequenz, programmierbar, Hochspannung, autonom, PC-steuerbar, Labor, Industrie, zur Oberflächenbearbeitung
Aushärtegeschwindigkeit
Mit durchgangigem Impulsstrom, PVD

Beschreibung

Überblick
Der TruPlasma Highpulse Series 4000 (G2) ist ein HiPIMS-Generator, der DC-Sputterquellen in bestehenden Magnetron-Systemen ohne Hardwareänderungen ersetzen kann. Sehr hohe Spitzenleistungen erzeugen extrem dichte Plasmen und hohe Ionenflüsse, um harte, korrosions‑ und verschleißfeste PVD-Beschichtungen zu erzielen.

Wesentliche Merkmale
  • Spitzenleistung bis zu 4 MW für sehr hohe Plasmadichte und Ionisation.
  • Direkte Anpassung an vorhandene Kathodensysteme und Prozessbedingungen für einfache Integration.
  • Im DC-Modus betreibbar; keine externe Gleichstromversorgung erforderlich.
  • Kompakte Mono‑Einheit, vollständig wassergekühlt, geeignet für Reinrauminstallation.
  • Volldigitales Arc-Management (z. B. CompensateLine CLC) für geringe Arc-Energie und reduzierte Filmmängel.


Anwendungen
  • Hartstoffbeschichtungen zum Schutz gegen Korrosion und Verschleiß stark beanspruchter Bauteile.
  • Halbleiter und Photovoltaik: angepasste Prozessenergie, hohe Produktivität und stabile Schichteigenschaften.
  • Großflächige Glasbeschichtungen für Architektur und Industrie mittels PVD-Plasmaverfahren.
  • Ätzen und Trench-Filling in Verbindung mit polarisierten Substraten zur Verbesserung der Schichteigenschaften.


Kundennutzen & Prozessvorteile
  • Hohe Prozessstabilität: einstellbare Impulsdauer und Frequenz sowie Leistungsregelung halten konstante Abscheideparameter, auch in reaktiven Prozessen.
  • Tropfenfreies Sputtern und minimale Filmmängel durch digitale Arc-Steuerung mit sehr geringer Arc-Energie.
  • Einstellbare Impulsparameter und erweiterte Leistungsregelung erhöhen Abscheideraten und reduzieren die Gesamtbetriebskosten.
  • Skalierbar vom F&E-Labor bis zur industriellen Großanlage dank hoher Energie- und Spannungsfähigkeit.


Optionen
  • CompensateLine (CLC): digitales Arc-Management zur Optimierung von Schichtqualität und Abscheideraten.
  • Prozessanpassungsoptionen zur Anpassung an verschiedene Kathodentypen und Anwendungen.


Software
  • PVD Power: mehrsprachige Bedienersoftware für Konfiguration, Überwachung und Diagnose; Echtzeit‑Parameteranzeige, Alarme, Sollwertvorgaben und hochauflösende Aufzeichnung (Oszilloskopfunktion) zur Prozessoptimierung und Fehleranalyse.


Hinweise
Komplett wassergekühltes, kompaktes Mono‑Gehäuse; konfigurierbar für prozessspezifische Anforderungen und geeignet für Reinraumbetrieb.

Technische Daten / Spezifikationen
  • Spitzenleistung: bis zu 4 MW
  • Maximale Spannung: bis zu 2 kV
  • Impulsdauer: bis zu 5 ms
  • Impulsfrequenz: bis zu 10 kHz
  • Modi: HiPIMS und DC
  • Kühlung: vollständig wassergekühlt
  • Gerätetyp: kompakte Mono‑Einheit (keine externe DC-Versorgung erforderlich)
  • Arc-Management: voll digital (CompensateLine CLC verfügbar)
  • Software: PVD Power

Kataloge

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* Die Preise verstehen sich ohne MwSt., Versandkosten und Zollgebühren. Eventuelle Zusatzkosten für Installation oder Inbetriebnahme sind nicht enthalten. Es handelt sich um unverbindliche Preisangaben, die je nach Land, Kurs der Rohstoffe und Wechselkurs schwanken können.