ÜberblickDer TruPlasma Highpulse Series 4000 (G2) ist ein HiPIMS-Generator, der DC-Sputterquellen in bestehenden Magnetron-Systemen ohne Hardwareänderungen ersetzen kann. Sehr hohe Spitzenleistungen erzeugen extrem dichte Plasmen und hohe Ionenflüsse, um harte, korrosions‑ und verschleißfeste PVD-Beschichtungen zu erzielen.
Wesentliche Merkmale- Spitzenleistung bis zu 4 MW für sehr hohe Plasmadichte und Ionisation.
- Direkte Anpassung an vorhandene Kathodensysteme und Prozessbedingungen für einfache Integration.
- Im DC-Modus betreibbar; keine externe Gleichstromversorgung erforderlich.
- Kompakte Mono‑Einheit, vollständig wassergekühlt, geeignet für Reinrauminstallation.
- Volldigitales Arc-Management (z. B. CompensateLine CLC) für geringe Arc-Energie und reduzierte Filmmängel.
Anwendungen- Hartstoffbeschichtungen zum Schutz gegen Korrosion und Verschleiß stark beanspruchter Bauteile.
- Halbleiter und Photovoltaik: angepasste Prozessenergie, hohe Produktivität und stabile Schichteigenschaften.
- Großflächige Glasbeschichtungen für Architektur und Industrie mittels PVD-Plasmaverfahren.
- Ätzen und Trench-Filling in Verbindung mit polarisierten Substraten zur Verbesserung der Schichteigenschaften.
Kundennutzen & Prozessvorteile- Hohe Prozessstabilität: einstellbare Impulsdauer und Frequenz sowie Leistungsregelung halten konstante Abscheideparameter, auch in reaktiven Prozessen.
- Tropfenfreies Sputtern und minimale Filmmängel durch digitale Arc-Steuerung mit sehr geringer Arc-Energie.
- Einstellbare Impulsparameter und erweiterte Leistungsregelung erhöhen Abscheideraten und reduzieren die Gesamtbetriebskosten.
- Skalierbar vom F&E-Labor bis zur industriellen Großanlage dank hoher Energie- und Spannungsfähigkeit.
Optionen- CompensateLine (CLC): digitales Arc-Management zur Optimierung von Schichtqualität und Abscheideraten.
- Prozessanpassungsoptionen zur Anpassung an verschiedene Kathodentypen und Anwendungen.
Software- PVD Power: mehrsprachige Bedienersoftware für Konfiguration, Überwachung und Diagnose; Echtzeit‑Parameteranzeige, Alarme, Sollwertvorgaben und hochauflösende Aufzeichnung (Oszilloskopfunktion) zur Prozessoptimierung und Fehleranalyse.
HinweiseKomplett wassergekühltes, kompaktes Mono‑Gehäuse; konfigurierbar für prozessspezifische Anforderungen und geeignet für Reinraumbetrieb.
Technische Daten / Spezifikationen- Spitzenleistung: bis zu 4 MW
- Maximale Spannung: bis zu 2 kV
- Impulsdauer: bis zu 5 ms
- Impulsfrequenz: bis zu 10 kHz
- Modi: HiPIMS und DC
- Kühlung: vollständig wassergekühlt
- Gerätetyp: kompakte Mono‑Einheit (keine externe DC-Versorgung erforderlich)
- Arc-Management: voll digital (CompensateLine CLC verfügbar)
- Software: PVD Power