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... Kurzbeschreibung
Der luftgekühlte HF‑
Generator TruPlasma RF 1001 Air liefert bis zu 1000 W präzise dosierter, reproduzierbarer HF‑Leistung mit 0,1 W Auflösung (100 mW‑Schritte). Entwickelt für die Halbleiter‑, Solar‑ und Display‑Fertigung, ...
TRUMPF lasers
... für plasmagestützte Beschichtungsverfahren wie PVD, PECVD und reaktives Sputtern. Sie bieten formbare, konfigurierbare Ausgangssignale und ein volldigitales Arc‑Management zur Stabilisierung des Plasmas und für reproduzierbare ...
TRUMPF lasers
... Überblick
Leistungsstarker Solid‑State-Mikrowellen‑Plasmagenerator, ausgelegt für sehr hohe Plasmadichten und anspruchsvolle industrielle Prozesse. Die TruPlasma MW Serie basiert auf Solid‑State‑Technologie und erreicht eine deutlich höhere ...
TRUMPF lasers
... Kundennutzen & Systemintegration
- Echtzeit‑Matching für schnelle Anpassung der Impedanz auf 50 Ω und Stabilisierung des Plasmas.
- Integrierte Ultra‑Weitbereichsnetzteile (200–480 VAC) vereinfachen die Installation in
TRUMPF lasers
... Kurzbeschreibung
HF-Technologie ohne Kompromisse. Die TruPlasma RF Serie 3000 ist eine robuste, hocheffiziente Hochfrequenz-Generatorfamilie für stabile, reproduzierbare Plasmaprozesse, wie sie z. B. bei der Herstellung von Flachbildschirmen, ...
TRUMPF lasers
... Arc‑Kathoden‑Prozesse, entwickelt für anspruchsvolle industrielle Umgebungen. Die Geräte eignen sich für Hartstoff‑ und dekorative
PVD‑Beschichtungen und dienen als Energiequelle für hochstromige DC‑Anwendungen wie die Ionenimplantation.
Hauptmerkmale ...
TRUMPF lasers
... zur Erhöhung der Oberflächenhärte, Reibungseigenschaften und thermisch/chemischen Stabilität.
TRUMPF lasers
... ein HiPIMS- Generator, der DC-Sputterquellen in bestehenden Magnetron-Systemen ohne Hardwareänderungen ersetzen kann. Sehr hohe Spitzenleistungen erzeugen extrem dichte Plasmen und hohe Ionenflüsse, um harte, korrosions‑ und verschleißfeste ...
TRUMPF lasers
... Synchronisation mehrerer Einheiten möglich.
TRUMPF lasers
... Prozessstromversorgungen der TruPlasma Bipolar Serie 4000 (G2.1) wurden speziell für die plasmagestützte Beschichtung mittels PVD-, PECVD- und reaktiven Sputter-Prozessen entwickelt und liefern mit flexibel formbaren Ausgangssignalen ...
TRUMPF Power electronics
... ermöglicht eine optimale Geräteeinbindung. Die erste Wahl für HiPIMS Anwendungen Als neueste Entwicklung bei gepulsten PVD-Sputterprozessen bietet HiPIMS besonders korrosionsbeständige und verschleißfeste Hartstoffbeschichtungen. Für ...
TRUMPF Power electronics
... schwierigen Materialien entwickelt. Die mit gepulstem Gleichstrom arbeitenden Generatoren bewähren sich insbesondere in kritischen PVD- und PECVD-Prozessen, bei denen zugleich höchste Schichtqualität und Produktivität verlangt werden. ...
TRUMPF Power electronics
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