Die Siebdruckanlage für PV-Zellen spielt eine entscheidende Rolle bei der Herstellung von kristallinen Silizium-Solarzellen. Sie dient dazu, leitfähige Pasten wie Silber- und Aluminiumpaste mithilfe einer Präzisionssiebdruckplatte auf die Waferoberfläche aufzutragen und so die vorderen Finger und Sammelschienen sowie die Rückseitenelektrode zu bilden. Die aufgedruckten Strukturen werden anschließend gebrannt, um ohmsche Kontakte und Stromsammelstrukturen zu erzeugen.
Diese moderne Drucklinie ist vollautomatisiert und umfasst mehrere Stationen, darunter in der Regel Module für das Beladen, den Puffer, die Ausrichtung, den Mehrfachdruck (zwei Durchgänge auf der Vorderseite und zwei auf der Rückseite), die Bildverarbeitungsprüfung, das Sortieren und das Entladen. Zu ihren Kernkomponenten zählen hochsteife Druckplattformen, CCD-basierte Ausrichtungssysteme mit einer Genauigkeit im Mikrometerbereich, servogesteuerte Rakeleinheiten, automatische Pastenzufuhrsysteme und ein intelligentes Prozessleitsystem. Die Anlage unterstützt fortschrittliche Technologien wie SMBB (Super Multi Busbar), 0BB (Zero Busbar) und den Feindruck (Linienbreite ≤ 25 μm).
Technologische Vorteile
Extrem hohe Druckgenauigkeit und Wiederholgenauigkeit (Genauigkeit ≤ ±6 μm, Linienbreitenregelung bis hinunter zu 20–30 μm), hohe Kapazität und flexible Fertigung (4800–5200 Stück/Stunde) sowie intelligenter Betrieb mit Ausbeutesicherung (integrierte KI-gestützte AOI).
Wichtige Parameter
Geeignet für Zellen von 182 mm (M10) bis 210 mm (G12)
Unterstützt rechteckige Zellen und halbgeschnittene Zellen
Zelldicke: 100–180 μm (anpassbar bis auf 80 μm)
Druckdurchläufe: 2 auf der Vorderseite (Finger + Sammelschienen) und 2 auf der Rückseite (Finger + Sammelschienen)
Druckgenauigkeit: ≤±6 μm; Gleichmäßigkeit der Linienbreite: ±2 μm
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