Overview FUJIFILM Electronic Materials bietet ein umfassendes Sortiment an TMAH‑basierten Entwicklern für positive und negative Fotolacke. Verfügbar als Ready-to-Use (RTU) und als Konzentrate, geeignet für Tauch‑ und In-line‑Track‑Entwicklung in der Halbleiterfertigung.
Product Lineup
Ready-to-Use (RTU) Produkte
Entwickler ohne Tensid (TMAH 2.38 wt%)
Entwickler mit Tensid (TMAH 2.38 wt%)
Konzentrate
TMAH 24,9% Konzentration (erfordert Verdünnung durch Kunden)
10% TMAH mit Tensid (vorgemischtes Konzentrat zur Verdünnung)
Modellbeispiele
OPD 262 — tensidfreier Entwickler
OPD 4262 — Entwickler mit breit kompatiblem Tensid
OPD 4280 — Entwickler mit breit kompatiblem Tensid
WNRD — Entwickler für negative Resist
Features & Benefits
Mehrere Reinheitsgrade, einschließlich Ultra‑High‑Purity für fortgeschrittene und EUV‑Anwendungen
RTU‑ und Konzentratformate für Standardprozesse und Vor‑Ort‑Verdünnung
Kompatibel mit Tauch‑ und In‑Line‑Track‑Entwicklung
Tensid‑Optionen zur Anpassung an Resist und Prozess
Bulk‑Versorgung und Konzentrate für die Großserienfertigung
* Die Preise verstehen sich ohne MwSt., Versandkosten und Zollgebühren. Eventuelle Zusatzkosten für Installation oder Inbetriebnahme sind nicht enthalten. Es handelt sich um unverbindliche Preisangaben, die je nach Land, Kurs der Rohstoffe und Wechselkurs schwanken können.
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