Overview FUJIFILM Electronic Materials bietet ein umfassendes Sortiment an TMAH‑basierten Entwicklern für positive und negative Fotolacke. Verfügbar als Ready-to-Use (RTU) und als Konzentrate, geeignet für Tauch‑ und In-line‑Track‑Entwicklung in der Halbleiterfertigung.
Product Lineup- Ready-to-Use (RTU) Produkte
- Entwickler ohne Tensid (TMAH 2.38 wt%)
- Entwickler mit Tensid (TMAH 2.38 wt%)
- Konzentrate
- TMAH 24,9% Konzentration (erfordert Verdünnung durch Kunden)
- 10% TMAH mit Tensid (vorgemischtes Konzentrat zur Verdünnung)
- Modellbeispiele
- OPD 262 — tensidfreier Entwickler
- OPD 4262 — Entwickler mit breit kompatiblem Tensid
- OPD 4280 — Entwickler mit breit kompatiblem Tensid
- WNRD — Entwickler für negative Resist
Features & Benefits- Mehrere Reinheitsgrade, einschließlich Ultra‑High‑Purity für fortgeschrittene und EUV‑Anwendungen
- RTU‑ und Konzentratformate für Standardprozesse und Vor‑Ort‑Verdünnung
- Kompatibel mit Tauch‑ und In‑Line‑Track‑Entwicklung
- Tensid‑Optionen zur Anpassung an Resist und Prozess
- Bulk‑Versorgung und Konzentrate für die Großserienfertigung
Packaging & Delivery- 1000 L IBC (Einweg oder retourierbar)
- 200 L Fässer (Einweg oder retourierbar)
- Bulk‑Lieferung (standortabhängig)
- 4 x 4 L Flaschen
Technical Specifications- Chemische Basis: TMAH (Tetramethylammoniumhydroxid)
- Produkttypen: RTU (z. B. TMAH 2.38 wt%) und Konzentrate (z. B. 24,9% TMAH; 10% TMAH mit Tensid)
- Anwendungen: positive und negative Resist‑Systeme; Tauch‑ und In‑Line‑Track‑Entwicklung; EUV‑kompatibel
- Tensid: verfügbar mit oder ohne
- Reinheitsgrade: Standard bis Ultra‑High‑Purity
- Lieferoptionen: Konzentrat, Bulk, Fässer, IBC, kleine Gebinde
Ordering & Support- Individuelle Verpackungen und Verdünnungsunterstützung für Großkunden verfügbar
- Kontaktieren Sie FUJIFILM Electronic Materials für Muster, technische Datenblätter und regulatorische Informationen