Harz für Halbleiter i-Line

für Elektronikanwendungenlichtempfindlichfür Hochleistungsanwendungen

Übersicht
Mid-UV-empfindliche Photoresist-Serie für das Patterning über ein breites Auflösungsfeld (unter 0,30 µm bis >1,0 µm) und verschiedene Schichtdicken auf nicht-reflektierenden, reflektierenden und hochreflektierenden Substraten.

Produktaufstellung

• i-Line-Resists für nicht-reflektierende Substrate
  Resist-Familien für kritisches CD-Drucken auf nicht-reflektierenden Substraten:
  • OiR 620 series
  • OiR 674 series
• i-Line-Resists für reflektierende Substrate
  Serien mit schnellen Fotospeed-Optionen für erweiterte Auflösungen auf reflektierenden Substraten:
  • OiR 674 series
  • GiR 1102 series
• Mehrzweck Hochauflösungs-i-Line-Resists
  Serien mit den schnellsten Fotospeed-Optionen für hohen Durchsatz und hochauflösendes Patterning:
  • GiR 2700 series
  • OiR 305 series
  • OiR 906 series
  • OiR 907 series
• Crossover g- und i-Line & Broadband Resists
  Resists geeignet für g-line, i-line und broadband (>800 nm CD):
  • HiPR 6500 series
  • HPR 510 series
• Gefärbte Resists für hochreflektierende Substrate
  Nicht-bleichende Formulierungen mit hoher optischer Dichte für CD- und Notching-Kontrolle:
  • OiR 906HD
  • OiR 305HC
  • HiPR 6500GH
  • HiPR 6500HC
• i-Line-Resists für dickere Anwendungen
  Serien ausgelegt für das Patterning dicker Filme (3–13 µm):
  • FHi-560EP
  • GiR 3114
  • OiR 305
  • OiR 908

Funktionen & Vorteile
Umfangreiche mid-UV-Resist-Optionen, die kritische und nicht-kritische CD-Bereiche abdecken, Kompatibilität mit mehreren Substrattypen und weite Schichtdickenfenster, mit wählbaren Kompromissen zwischen Fotospeed und Auflösung je nach Serie.

Technische Daten

• Empfindlichkeitsbereich: mid-UV (i-line / g-line / broadband)
• Zielauflösung: <0,30 µm bis >1,0 µm je nach Serie
• Substratkompatibilität: nicht-reflektierend, reflektierend und hochreflektierend
• Vertreter-Serien: OiR 620, OiR 674, GiR 1102, GiR 2700, OiR 305, OiR 906, OiR 907, HiPR 6500, HPR 510, OiR 906HD, OiR 305HC, HiPR 6500GH, HiPR 6500HC, FHi-560EP, GiR 3114, OiR 908
• CD- und Notching-Kontrolle für hochreflektierende Substrate (gefärbte Serien)
• Schichtdickenbereich für dicke Anwendungen: 3 µm bis 13 µm
• Optionen für schnellen Fotospeed und hohe Auflösung (>500 nm CD) je nach Serie