Harz für Halbleiter i-Line

lichtempfindlich

Umfangreiche Serie von mittel- bis hochempfindlichen Fotolacken für kritische bis unkritische Anwendungen mit einer Auflösung von unter 0,30 µm bis > 1,0 µm auf verschiedenen Substraten über einen großen Bereich von Lackdicken. Produktpalette Fortschrittliche i-Line Resists für nicht-reflektierende Substrate Resistfamilien für anspruchsvolle kritische CD-Strukturierung (350 nm CD) auf reflektierenden Substraten: Serie OiR 674 Serie GiR 1102 Hochauflösende Mehrzweck-i-Line-Resists Resistserien mit schnellsten Fotogeschwindigkeitsoptionen für hohen Durchsatz, hohe Auflösung (>500 nm CD) und robuste Strukturierung: Serie GiR 2700 Serie OiR 305 Serie OiR 906 OiR 907-Reihe Mehrzweck-Cross-over g- und i-Line-Resists Resist-Serien, die eine robuste Strukturierung für g-Linien, i-Linien und Breitband (>800 nm CD) bieten: HiPR 6500-Reihe HPR 510-Reihe Gefärbte Resists für hochreflektierende Substrate Resistserie mit nicht ausbleichenden, hohen optischen Dichten für CD- und Notching-Kontrolle auf hochreflektierenden Substraten: OiR 906HD OiR 305HC HiPR 6500GH HiPR 6500HC i-Line Resists für dickere Anwendungen Resistserie für dickere Schichtstrukturen mit Schichtdicken von 3 bis 13 µm: FHi-560EP GiR 3114 OiR 305 OiR 908