Harz für Halbleiter

für Elektronikanwendungenlichtempfindlich

Übersicht
Negativtonige, polyisoprenbasierte Fotolack-Serien von Fujifilm, entwickelt für Projektions-, Proximity- und Kontaktbelichtung sowie kompatible Nassätzprozesse auf verschiedenen Substraten. Mehrere Serien decken einen breiten Beschichtungsbereich ab, um unterschiedliche Auflösungs- und Dickenanforderungen zu erfüllen.

Produktlinien

• SC Resist-Serie
  Für dickere Anwendungen mit Beschichtungsdicken von 1,8 bis 10 µm; optimiert für Kontaktbelichtung.
• IC Type 3 Resist-Serie
  Für Anwendungen mittlerer Dicke mit Beschichtungen von 0,75 bis 2,0 µm; geeignet für Projektions-, Proximity- und Kontaktbelichtung.
• HNR Resist-Serie
  Für hochauflösende Anwendungen mit Beschichtungsdicken von 0,50 bis 1,40 µm; optimiert für Proximity- und Kontaktbelichtung.
• HR Resist-Serie
  Für Anwendungen auf stark reflektierenden Substraten mit Beschichtungsdicken von 0,70 bis 1,50 µm; geeignet für Projektions-, Proximity- und Kontaktbelichtung.

Anwendungen

• Projektions-, Proximity- und Kontaktbildgebung für Leiterplatten- und Mikrostrukturierung
• Kompatibel mit Nassätzprozessen auf verschiedenen Substraten, einschließlich stark reflektierender Oberflächen
• Auswahl der Serie ermöglicht Anpassung von Beschichtungsdicke und Auflösung an spezifische Prozessanforderungen

Technische Spezifikationen

• Marke: Fujifilm
• Produkttyp: Negatives Fotolacksystem (polyisoprenbasiert)
• Tonalität: Negativ
• Polymerbasis: Polyisopren
• Bildgebung: Projektion, Proximity und Kontakt
• Empfohlene Anwendungen: Nassätzprozesse; Anwendungen auf stark reflektierenden Substraten (HR-Serie)
• SC Resist-Serie: Beschichtungsdicke 1,8–10 µm — optimiert für Kontaktprinter
• IC Type 3 Resist-Serie: Beschichtungsdicke 0,75–2,0 µm — für Projektions-, Proximity- und Kontaktprinter
• HNR Resist-Serie: Beschichtungsdicke 0,50–1,40 µm — für hochauflösende Proximity- und Kontaktbildgebung
• HR Resist-Serie: Beschichtungsdicke 0,70–1,50 µm — für stark reflektierende Substrate mit Projektion, Proximity und Kontakt