Reinigungslösemittel RER series

für Elektronik

Breites Angebot an Speziallösungsmittelmischungen für Resist Edge Bead Removal (EBR), Rework, Rinse und Pre-Wet-Anwendungen. Hochreine Lösungsmittel für fortschrittliche Lithografie-Vorwässerungsanwendungen Die kritischen Photoresist-Anwendungen von heute erfordern präzise Stripp-, Entfernungs- und Spüleigenschaften. Deshalb haben wir eine komplette Reihe von EBR-Lösungen entwickelt, die eine erstklassige Randentfernung ermöglichen und gleichzeitig den Industriestandard für Reinheit, Verpackung und Umweltschutz einhalten Fujifilm bietet eine breite Palette von Lösungsmitteln für alle Anwendungen an. Unsere Produkte werden in hochmodernen Anlagen hergestellt und erfüllen die weltweit höchsten Qualitätsstandards für Partikel, Spurenmetalle und organische Verunreinigungen. Neben reinen Lösemitteln bietet Fujifilm auch maßgeschneiderte Mischungen für einzigartige oder kundenspezifische Anwendungen an. Produktpalette Alkohole und Ketone: (Methanol, Aceton, MEK, Ethanol, IPA, MIBC, MIBK, Cyclopentanon, Cyclohexanon) Acetate, Lactone, Ether: (PGME, PGMEA, GBL, EL, nBA) EUV-Lösungsmittel und kundenspezifische Mischungen (wenden Sie sich an Ihren Fujifilm Account Manager) Merkmale und Vorteile Ultrahochreine Lösungsmittel zur Defektreduzierung Fortschrittliche EUV-Lösungsmittel für hohe Strukturierungspräzision und reduzierte Resist-Quellungseigenschaften Kundenspezifische Verarbeitung und Mischungen Modernste Analyseinstrumente zur Sicherstellung der Produktreinheit und -qualität. Regionalisierte Beschaffung: Herstellung und Verpackung in den USA, Europa und Asien Verpackungsoptionen: 1L-4L Glasflaschen NOWPak Fässer: Rostfreier Stahl, PFA, HDPE IBC: Rostfreier Stahl, PFA, HDPE ISOtainer NOWPak ist eine Marke oder eingetragene Marke von Entegris, Inc. in den Vereinigten Staaten und/oder anderen Ländern.