Positiv- und Negativ-Ton-Resist-Serien für eine breite Palette von E-Beam-Imaging-Anwendungen
- Hervorragende Auflösung
- Breite Prozessfenster
Produktpalette
FEP-Serie und XFP-Serie
Die Produkte der FEP- und XFP-Serie eignen sich für eine Vielzahl von Anwendungen, die eine Positivtonbelichtung mit Elektronenstrahl erfordern.
FEN-Reihe und XFN-Reihe
Die Produkte der Serien FEN und XFN eignen sich für ein breites Spektrum von Anwendungen, die eine Negativton-Belichtung mit Elektronenstrahl erfordern.
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