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Laserquellen für Halbleiter
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Leistung: 80 W
Wellenlänge: 1.064 nm
... Konfiguration für stabile Ausgangsleistung (Leistungsstabilität ≤3 % über 24 h) und verbesserte Bearbeitungsleistung in der Halbleiter- und Photovoltaikfertigung
Han's Laser Technology Co., Ltd
Leistung: 20 W - 50 W
Wellenlänge: 1.030 nm
... Pulse Amplification (CPA)-Technologie, um beugungsnahe femtosekunden-Ausgänge zu liefern. Er findet breite Anwendung in der
Halbleiter- und Unterhaltungselektronikindustrie für präzise Mikrobearbeitung und konstante Prozessleistung.
- Schneiden,
Han's Laser Technology Co., Ltd
Leistung: 3 W - 20 W
Wellenlänge: 514 nm - 1.032 nm
... gt;130 µJ (1030 nm)
Anwendungen
- Mikrobearbeitung und Präzisionsstrukturierung
- Halbleiter- und Elektronikfertigung
- Display- und Batterieproduktion
- Wissenschaftliche Forschung und
JPT Opto-electronics
Leistung: 20, 60 W
Wellenlänge: 1.035 nm
... Produktübersicht
Die JPT FS Series Femtosekunden‑Infrarot‑Faserlaser erzeugen ultrakurze Pulse (<400 fs) mit hoher Einzelschussenergie (>40 μJ) für sehr hohe Spitzenleistungen und submikrometrische Präzision. Die Vollfaser‑CPA‑Architektur ...
JPT Opto-electronics
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