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Leistung: 50, 30, 75, 100, 1.000 W
Wellenlänge: 517 nm - 642 nm
... Wärmeeinflusszonen und eine effiziente Absorption in vielen nichtmetallischen Materialien, was Kantenqualität und Strukturauflösung bei
Markier-, Schneid-, Scribing- und Kupfersinterprozessen verbessert.
Hinweise
Verfügbare ...
IPG Photonics Corporation
Leistung: 170, 150, 300 W
Wellenlänge: 9,3, 10,6 µm
... und 303 sind zwei RF-CO2- Laserquellen, die hohe Leistung und einfache Integration miteinander verbinden. Ihre Ausgangsleistung reicht von 150 W für den RF 177 bis 300 W für den RF 303. Im gepulsten Betrieb kann diese Laserquelle ...
El.En. S.p.A.
Leistung: 3 W - 20 W
Wellenlänge: 514 nm - 1.032 nm
... Übersicht
Der JPT-LIT 20 ist ein kompakter Femtosekunden-Ultraschnelllaser mit passiver Luftkühlung, entwickelt für industrielle Mikrobearbeitung, Halbleiterprozesse und wissenschaftliche Anwendungen. Er liefert ultrakurze Pulse (400 fs–4 ps), ...
JPT Opto-electronics
Leistung: 100 W
Wellenlänge: 1.060, 1.080 nm
... Reaktionszeit - Versorgungsspannung: 48V (DC) - Empfohlene Spannungsversorgung: 600W - Kühlsystem: Luftgekühlt, modulare Laserquelle - Technologie: Antireflexions-Isolator für verbesserte Stabilität - Kompakte Bauweise: 360mm x 301mm ...
Laserstar Technologies Corporation
Leistung: 20, 30, 50, 100 W
Wellenlänge: 1.064 nm
... Perfect Laser 20-100W pulsierte Faserlaserquelle ist eine ideale Hochleistungslaserquelle mit hoher Geschwindigkeit und hoher Effizienz. Die Faserlaserquelle ist speziell für industrielle Lasersysteme und andere Anwendungen konzipiert. Im Vergleich ...
... Taumac präsentiert die neue Laserquelle TauMark NIB. Taumac hat eine neue Laserquelle entwickelt, die in der Lage ist, ultrakurze Impulse zu erzeugen, die Definition und Qualität jeder Lasermarkierung und -gravur garantieren. Sein ...
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