Mask Aligner / für großflächige Substrate

vollautomatischfür Produktion

Übersicht
Für hochauflösende Glasbelichtung entwickelt, vereint dieses System ein UV-Optikdesign, das für feine Muster optimiert ist, und einen Mechanismus zur hochpräzisen Parallelisierung von Fotomaske und Substrat. Vollautomatischer Betrieb mit Belichtungsmodi: Vakuumkontakt, Softkontakt und Proximity-Spalt. Vertikale und horizontale Ausführungen für unterschiedliche Maskengrößen: vertikal für große Masken (G5 und größer), horizontal für G4.5 oder kleiner.

Anwendung
Geeignet für Glasbearbeitung in Produktionslinien für FPD (Flat Panel Display), TP (Touch Panel) und CF (Cell Fabrication).

Spezifikation

• Verfügbare Substratgröße: G4.5 - G8.5
• Ausrichtgenauigkeit: ±1 μm
• Belichtungsmodi: Vakuumkontakt, Softkontakt, Proximity-Spalt

Hauptmerkmale

• UV-Optiksystem optimiert für hochauflösende Belichtung
• Hochpräziser Parallelisierungsmechanismus für Fotomaske und Substrat
• Vollautomatischer Betrieb mit wählbaren Belichtungsmodi
• Ausführungen: vertikal (empfohlen für G5+) und horizontal (empfohlen für G4.5 oder kleiner)
• Konzipiert für die Integration in industrielle FPD/TP/CF-Linien