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Mask Aligner / für Wafer Tischautomatischfür Produktion
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Eigenschaften
- Merkmal
- für Wafer, automatisch, Tisch, für Produktion, für Labor
Beschreibung
Überblick
Anwendungen
Hauptmerkmale
Spezifikationen
- Benk-Tisch Wafer-Belichtungssystem (Mask Aligner), entwickelt für F&E und Kleinserienfertigung.
- Unterstützt drei Spaltsteuerungsmodi: Hard Contact, Soft Contact und Proximity Gap.
Anwendungen
- Geeignet für Glas, Wafer, Folien und keramische Substrate.
- Labor-F&E, Prototyping und Kleinserienproduktion.
Hauptmerkmale
- Wählbare Ausrichtung: manuelle oder automatische Ausrichtungsoptionen.
- Wählbare Spaltsteuerung: automatische oder manuelle Spaltverstellung.
- Manuelles Be- und Entladen für flexible Handhabung verschiedener Substrate.
Spezifikationen
- Arbeitsgrößen: 12 Zoll, 6-8 Zoll, 4-6 Zoll, 2-4 Zoll und quadratische Formate.
- Be- / Entladen: Manuell.
- Ausrichtungsmethode: Manuell oder automatisch (wählbar).
- Spaltsteuerung: Automatisch oder manuell (wählbar).
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* Die Preise verstehen sich ohne MwSt., Versandkosten und Zollgebühren. Eventuelle Zusatzkosten für Installation oder Inbetriebnahme sind nicht enthalten. Es handelt sich um unverbindliche Preisangaben, die je nach Land, Kurs der Rohstoffe und Wechselkurs schwanken können.