Erreichen Sie das ganze Jahr über neue Kunden an einem einzigen Ort
Aussteller werden
{{product.productLabel}} {{product.model}}
{{#if product.featureValues}}{{product.productPrice.formattedPrice}} {{#if product.productPrice.priceType === "PRICE_RANGE" }} - {{product.productPrice.formattedPriceMax}} {{/if}}
{{#each product.specData:i}}
{{name}}: {{value}}
{{#i!=(product.specData.length-1)}}
{{/end}}
{{/each}}
{{{product.idpText}}}
{{product.productLabel}} {{product.model}}
{{#if product.featureValues}}{{product.productPrice.formattedPrice}} {{#if product.productPrice.priceType === "PRICE_RANGE" }} - {{product.productPrice.formattedPriceMax}} {{/if}}
{{#each product.specData:i}}
{{name}}: {{value}}
{{#i!=(product.specData.length-1)}}
{{/end}}
{{/each}}
{{{product.idpText}}}
... Der OAI Model 200 Mask Aligner ist ein kosteneffektiver Hochleistungs- Mask Aligner, der mit industrieerprobten Komponenten entwickelt wurde, die OAI zu einem führenden Unternehmen in ...
OAI
... Verwendung einer Vielzahl von Substraten und Masken ermöglichen, ohne dass Werkzeuge zur Neukonfiguration erforderlich sind. Das Ausrichtmodul enthält Mikrometer für die X-, Y- und Z-Achse. Dieser Mask Aligner ...
OAI
OAI
... Rückseitenausrichtung mit einer Auflösung im Submikrometerbereich und damit eine Leistung, die zu jedem Preis unerreicht ist. Die Aligner verfügen über eine Advanced Beam Optics mit einer Uniformität von besser als ±3% und einem Durchsatz ...
OAI
... Das EVG®610 ist ein kompaktes und vielseitiges F&E-System, das kleine Substratstücke und Wafer bis zu 200 mm verarbeiten kann. Das EVG610 unterstützt eine Vielzahl von Standardlithographieverfahren wie Vakuum-, Hart-, Weich- und Näherungsbelichtungsmodi ...
EV Group
... ist, um hohen Produktionsanforderungen und Fabriknormen gerecht zu werden. Bedienerfreundliche Software, minimierte Zeit für Masken- und Werkzeugwechsel sowie effizienter weltweiter Service und Support machen sie zur idealen Lösung für ...
EV Group
... Übersicht
Dieses Wafer-Belichtungssystem (
Mask
Aligner) verwendet ein originales UV-Optiksystem, optimiert für hochauflösende Belichtung, und einen Mechanismus zur hochpräzisen Parallelisierung von Photomaske ...
SEIWAOPTICAL
... Überblick
- Benk-Tisch Wafer-Belichtungssystem (Mask Aligner), entwickelt für F&E und Kleinserienfertigung.
- Unterstützt drei Spaltsteuerungsmodi: Hard Contact, Soft Contact und Proximity Gap.
Anwendungen ...
SEIWAOPTICAL
... Produkt
Vollautomatische Wafer-Belichtungsanlage (
Mask
Aligner) für die LED-Chipherstellung. Kompatibel mit Micro LED und Standard-LED-Wafern; erhältlich in zwei kombinierten Größenvarianten für 2–4 Zoll und ...
SEIWAOPTICAL
... Softkontakt und Proximity-Spalt. Vertikale und horizontale Ausführungen für unterschiedliche Maskengrößen: vertikal für große
Masken (G5 und größer), horizontal für G4.5 oder kleiner.
Anwendung
Geeignet für Glasbearbeitung ...
SEIWAOPTICAL
Erreichen Sie das ganze Jahr über neue Kunden an einem einzigen Ort
Aussteller werdendie besten Anbieter für Sie aus