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... Das Axion® T2000 Röntgenmesssystem ermöglicht hochauflösende, schnelle, präzise und zerstörungsfreie 3D-Formmessungen von Strukturen mit hohem Aspektverhältnis, die in modernen 3D-NAND- und DRAM-Chips verwendet werden. Durch den Einsatz innovativer Röntgentechnologie ...
KLA Corporation
... Optische Systeme zur Messung kritischer Abmessungen (CD) und von Formen Das Dimensionsmesssystem SpectraShape™ 12k wird zur vollständigen Charakterisierung und Überwachung der kritischen Abmessungen (CD) und dreidimensionalen Formen von Nanosheets, FinFETs, ...
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... Die Filmmesssysteme SpectraFilm™ F10 und F20 liefern präzise Dünnschichtmessungen für kritische Schichten in modernen Logik- und Speichergeräten. Mit einer hellen Lichtquelle und einer breitbandigen spektroskopischen Ellipsometrie-Technologie mit erweiterter ...
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... Das Filmmesssystem Aleris® 9350 liefert zuverlässige, hochpräzise Messungen von Filmdicke, Brechungsindex, Spannung und Zusammensetzung für ein breites Spektrum an allgemeinen Filmen, die moderne Logik, DRAM und 3D-NAND unterstützen. Das Aleris 9350 basiert ...
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... Wafer-to-Wafer-Bonding-Messungen für fortschrittliche Wafer-Level-Packaging-Anwendungen zu unterstützen. PWG3™ Das strukturierte Wafergeometrie- Messsystem der dritten Generation unterstützt die Inline-Überwachung von fabrikweiten Prozessen ...
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... erfasst die Auswirkungen der Plasmaätzprozessumgebung auf Produktionswafer unter realen Prozessbedingungen. Das EtchTemp-HD Messsystem verfügt über eine hohe Sensordichte, die eine waferübergreifende Temperaturüberwachung ermöglicht, ...
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... Die HighTemp™-Serie von In-Situ-Wafer-Temperaturmesssystemen, die sowohl in 300-mm- als auch in 200-mm-Konfigurationen erhältlich sind, wurde für die Optimierung und Überwachung von fortschrittlichen Schichtprozessen (FEOL und BEOL ALD, CVD und PVD) und ...
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... Das WetTemp™-System zur In-situ-Temperaturmessung von Wafern, das sowohl in 300-mm- als auch in 200-mm-Konfigurationen erhältlich ist, unterstützt die Überwachung von Nassreinigungs- und anderen Nassprozessen. Die Überwachungswafer der WetTemp-Serie sind ...
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... Das UV Wafer™ In-situ-UV-Lichtmesssystem für 300 mm nutzt die drahtlose Sensor-Wafer-Technologie zur Messung der UV-Lichtdosierung und -intensität an der Wafer-Oberfläche in Anlagen für die Schichtabscheidung. Der UV Wafer ermöglicht eine bisher nicht ...
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... Das Messsystem LMS IPRO7 für die Retikelregistrierung wurde entwickelt, um eine genaue und schnelle Verifizierung der Musterplatzierungsleistung von EUV- und optischen Retikeln für den 7nm-Designknoten zu ermöglichen. Das LMS IPRO7 bietet ...
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