Dickenmesssystem SpectraFilm™

spektroskopischfür FolienHochpräzision

Die Filmmesssysteme SpectraFilm™ F10 und F20 liefern präzise Dünnschichtmessungen für kritische Schichten in modernen Logik- und Speichergeräten. Mit einer hellen Lichtquelle und einer breitbandigen spektroskopischen Ellipsometrie-Technologie mit erweiterter Wellenlänge bieten sie schnelle, zuverlässige Messungen in komplexen Prozessabläufen. Der SpectraFilm F10 zielt auf Gate-Allround-Transistor-Architekturen bei 2 nm und darunter sowie auf die neuesten DRAM-Knoten und bietet Sub-Angström-Präzision zur Kontrolle von HKMG-Supergitterschichten und zur Aufrechterhaltung einer engen Schwellenspannungsverteilung (Vt) für die Feinabstimmung der Leistung. Der SpectraFilm F20 ermöglicht die genaue Steuerung von dünnen und dicken Schichten in 3D-NAND-Strukturen mit Hunderten von Paaren und unterstützt so die weitere Skalierung von Speichern mit hoher Kapazität. Zusammengenommen helfen die SpectraFilm-Systeme den Chipherstellern, die Präzision und Produktivität zu erreichen, die für die anspruchsvollsten Designs von heute erforderlich sind. Anwendungen Bandgap-Überwachung, Technische Analyse, Inline-Prozessüberwachung, Werkzeugüberwachung, Prozesswerkzeugabgleich Ähnliche Produkte Das SpectraFilm F1-Filmmesssystem bietet zuverlässige, hochpräzise Messungen von Dünn- und Dickschichtdicke, Brechungsindex und Spannung für eine breite Palette von Filmschichten am 7-nm-Designknoten und darüber hinaus. Das SpectraFilm™ LD10-Filmmesssystem bietet zuverlässige, hochpräzise Messungen von Dünn- und Dickschichtdicke, Brechungsindex und Spannung für eine breite Palette von Filmschichten am 16-nm-Designknoten und darüber hinaus.