Temperaturmesssystem WetTemp™

für Wafer

Das WetTemp™-System zur In-situ-Temperaturmessung von Wafern, das sowohl in 300-mm- als auch in 200-mm-Konfigurationen erhältlich ist, unterstützt die Überwachung von Nassreinigungs- und anderen Nassprozessen. Die Überwachungswafer der WetTemp-Serie sind mit den meisten Einzelwafer-Nassreinigungsprozesssystemen kompatibel und unterstützen Ingenieure bei der Qualifizierung von Nassreinigungswerkzeugen, der Optimierung von Nassreinigungsprozessen und der Verbesserung der Leistung von Nassreinigungssystemen. Anwendungen Prozessentwicklung, Prozessqualifizierung, Prozesswerkzeugüberwachung, Prozesswerkzeugqualifizierung, Prozesswerkzeuganpassung Wafer-Temperaturüberwachung mit 65 integrierten Temperatursensoren, die gleichmäßig in neun konzentrischen Ringen verteilt sind, um eine verbesserte Abdeckung der Wafer-Oberfläche für umfassende räumliche Temperaturdaten über den gesamten Wafer zu gewährleisten. Kompatibel mit Einzelwafer-Nassprozessen mit einer Waferdicke von 1,2 mm. Wafer-Temperaturüberwachung mit 65 integrierten Temperatursensoren, die gleichmäßig in neun konzentrischen Ringen verteilt sind, um eine verbesserte Abdeckung der Wafer-Oberfläche für umfangreiche räumliche Temperaturdaten auf dem Wafer zu gewährleisten. Kompatibel mit Einzelwafer-Nassprozessen mit einer Waferdicke von 1,2 mm. Wafer-Temperaturüberwachung mit 65 integrierten Temperatursensoren, die in fünf konzentrischen Ringen verteilt sind, mit voreingenommener Dichte im Bereich von 147 mm. Kompatibel mit Einzel-Wafer-Nassprozessen mit einer Waferdicke von 0,775 mm. Wafer-Temperaturüberwachung mit 65 integrierten Temperatursensoren, die in fünf konzentrischen Ringen mit einer vorgespannten Dichte im 147-mm-Bereich verteilt sind. Kompatibel mit Einzelwafer-Nassprozessen mit einer Waferdicke von 1,2 mm.