Keramikring

ScheibenAluminiumoxidIsolation

Aluminiumoxid-Keramik-Fokusringe wurden entwickelt, um die Gleichmäßigkeit der Ätzung an der Waferkante oder am Waferrand zu verbessern. Bei Verwendung eines elektrostatischen Chucks (E-Chuck) liegt der Wafer auf dem Fokusring auf, der durch die elektrostatische Ladung in Position gehalten wird. Aluminiumoxid-Keramik-Fokusringe dienen als kritische Komponenten in Plasmaätzanlagen, vor allem in der Ätzkammer. Die Ringe werden strategisch positioniert, um die Verteilung des Plasmas zu optimieren und die Gleichmäßigkeit während des Ätzprozesses zu gewährleisten. Halbleiterherstellungsprozesse erfordern den Betrieb in Reinraumumgebungen, insbesondere für Komponenten, die unter Hochtemperatur-, Vakuum- und korrosiven Gasbedingungen eingesetzt werden. Keramische Werkstoffe weisen in diesen komplexen physikalischen und chemischen Umgebungen eine hohe Stabilität auf. Der keramische Fokusring ist ein kritisches Teil für den Halbleiterätzprozess. Wenn eine Aluminiumlegierung als Material für die Ätzkammer gewählt wird, kann es leicht zu einer Verunreinigung durch Metallpartikel kommen. Daher wird hochreine (über 99,5 %) Aluminiumoxid-Keramik bei der Herstellung von keramischen Fokusringen als Kammermaterial für Plasmaätzanlagen verwendet. Merkmale der Keramik-Fokusringe： -Abnutzungsbeständigkeit, -Korrosionsbeständigkeit, -Ausgezeichnete mechanische Eigenschaften, -Elektrische Isolierung, -Erfüllt den Qualitätsstandard von Halbleiterprodukten.