Hochmodernes Laser-Dicing- und Rillensystem
Das ALSI LASER1205 ist ein hochpräzises Lasersystem, das für das Vollschnitt-Dicing und das Rillen von Halbleiterwafern entwickelt wurde. Dieses von ASMPT ALSI entwickelte System vereint fortschrittliche Lasertechnologie mit hohem Durchsatz und bietet eine zuverlässige Lösung für anspruchsvolle Fertigungsumgebungen.
Die wichtigsten Vorteile des LASER1205
Ultrapräzises Dicing: Positionsgenauigkeit und Reproduzierbarkeit von <1,5 µm
Minimale Wärmeeinwirkung: Wärmeeinflusszone (HAZ) <2 µm
Schmale Schneidbreite: <12 µm bei Mehrstrahlbearbeitung auf 100-µm-Silizium
Hoher Durchsatz: Bis zu 50 % schneller als konkurrierende Systeme
Flexible Materialhandhabung: Unterstützt Si, SiC, GaAs, Ge, DAF, Mold und mehr
Inline-Bildverarbeitung und Schnittspaltprüfung: Echtzeitüberwachung „On-the-Fly“
Doppelte Kassetten- und Reinigungsstationen: Kontinuierlicher Betrieb mit minimalen Ausfallzeiten
Anwendungen
Der LASER1205 ist für eine breite Palette von Halbleiterprozessen ausgelegt:
Wafer-Dicing: Dicke von 10 µm bis 300 µm
Rillen- und Grabenbearbeitung: Für Low-K, PI, TEG und andere fortschrittliche Materialien
Mehrstrahl-Laserbearbeitung: UV- und IR-Konfigurationen
Inline-Bildverarbeitung und -Überwachung: Gewährleistet gleichbleibende Qualität und Präzision
Maschinenkonfigurationen
Unsere LASER1205-Lasermaschinen sind führend in Sachen Qualität und senken Ihre Betriebskosten. Unser Portfolio ist auf die spezifischen Herausforderungen der Märkte zugeschnitten, sowohl für OSAT- als auch für führende IDM-Unternehmen.
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