DC/DC-Netzteil EBL

einphasigmit Kurzschluss-Schutzmit Überlastschutz

TYPISCHE ANWENDUNG Mikrooptik,Halbleiterlithographie,Halbleiterbelichtungsgerät,Maske Das EBL-Hochspannungsnetzteil von Wisman ist für Präzisions-Elektronenstrahlanwendungen wie Halbleiter-Nanolithographie, Mikrooptik und Entwicklungsmaskenarbeiten konzipiert. Es hat eine extrem niedrige Restwelligkeit und ausgezeichnete Stabilitätseigenschaften, die für Anwendungen mit sehr strengen Anforderungen sehr gut geeignet sind. Wählbarer Ausgangsstrombereich für niedrigen und hohen Ausgangsstrom. Der Hochspannungsteil der soliden Verkapselung eliminiert jegliche Wartungsprobleme des Benutzers und isoliert die Komponenten von Umgebungsvariablen. Das Gerät ist vollständig gegen Überlast, Lichtbogen und Kurzschluss geschützt. Bietet Fernsteuerungs-, Programmier- und Überwachungsfunktionen. Ermöglicht eine genaue passive Messung des Hochspannungsausgangs. Optionale USB2.0, Netzwerkanschluss, RS-232, RS485 digitale Kommunikation, kann je nach Benutzeranforderungen angepasst werden. SPEZIFIKATIONEN Spannungsregelung: ±0,001% der Nennspannung innerhalb des angegebenen Eingangsspannungsbereichs Lastregelung: ≤20V, Stromänderungen von 25μA bis 60μA und 60μA bis 25μA restwelligkeit: Spitze-zu-Spitze-Wert≤70mV Hochspannungs-Mikroentladung: Weniger als 200mV stabilität: Nach 6 Stunden Vorheizen, 0,001% alle 8 Stunden, die Temperatur beträgt 20℃±0,2℃ Temperaturkoeffizient: 25ppm pro Grad Celsius im Bereich von 10°C bis 40°C Umweltbedingungen: Betriebstemperatur: 0 bis 40 Grad Celsius Lagertemperatur: -40 bis 85 Grad Celsius Luftfeuchtigkeit: 10 bis 90% RH, keine Kondensation Kühlung: Konvektionskühlung Frontplatte: Netz-Ein/Aus-Schalter HV ON / OFF-Schalter HV ON/OFF-Anzeige