Rasterkraftmikroskop NX-Mask

zur Reparatur von FotomaskenNanoskopautomatisch

Park NX-Mask ist das effektivste, sicherste und effizienteste Fotomasken-Reparatursystem für hochwertige EUV-Maskenreparaturen. Es bietet eine All-in-One-Lösung - von der automatischen Fehlerprüfung bis hin zur Reparatur und Verifizierung - und beschleunigt den Durchsatz mit beispielloser Reparatureffizienz. Hauptmerkmale ✔ Kein Beschädigungsrisiko und nahtlose Reparatur aller Arten von Defekten ✔Kompatibel mit einem Dual-Pod für die Handhabung von EUV-Masken ✔All-in-One-Lösung für die Lokalisierung von Defekten und die Verifizierung nach der Reparatur