Metrologie für Halbleiter Atlas V

Die Atlas-Dünnschicht- und OCD-Serie ist das Messwerkzeug für die Herstellung von FinFET-, Gate-All-Around (GAA)-FET-, 3D-NAND- und fortschrittlichen DRAM-Bauelementen der Spitzenklasse. Das neue Atlas V-Metrologiesystem wurde entwickelt, um mehrere wichtige Schritte zu messen, die vergrabene Merkmale umfassen, die mit CD-SEM und anderen Techniken nicht sichtbar sind. Durch bemerkenswerte Verbesserungen bei den optischen Systemen, den mechanischen Subsystemen und den Softwarealgorithmen kann das Atlas V-System die sehr feinen Variationen der Bauelementparameter präzise messen und schwache Prozessecken aufdecken, so dass die Ingenieure ihre Prozessstabilität in der Fertigung verbessern können. Die Empfindlichkeit der Atlas-V-Messtechnik ermöglicht es, diese kritischen Abmessungen mit hoher Genauigkeit und Empfindlichkeit zu messen, wodurch die Möglichkeiten optischer Lösungen für Generationen von Bauelementen erweitert werden und andere langsamere Prozesskontrolltechniken überflüssig werden. Die Atlas V Technologie ermöglicht die für die Entwicklung von GAA/3D NAND/DRAM erforderliche Leistung und ist über 100 Mal schneller als Röntgenlösungen für diese Strukturen. Ausgewählte Kunden von Onto Innovation haben diese neue OCD-Technologie validiert und sich von der Geschwindigkeit und Auflösung überzeugt, die früher als jenseits der Grenzen der optischen Technologie galten.