Sputter-Auftragsmaschine / mit Magnetron VTC-600-2HD DC/RF

Metallisierung

Das VTC-600-2HD ist ein Magnetron-Sputtersystem mit zwei Targetquellen: 1) DC-Quelle für die Beschichtung von metallischem Material auf einem Kopf und 2) RF-Quelle für die Beschichtung von nicht-metallischem Material auf dem anderen Kopf. Es ist mit einem Schichtdickentracker ausgestattet, der es dem Benutzer ermöglicht, den Beschichtungsfortschritt einfach zu überwachen und die Daten aufzuzeichnen. Dieses Modell ist für die Beschichtung von Einzel- oder Mehrfachschichten einer Vielzahl von Substratmaterialien (ferroelektrisch, konditiv, Legierung, Halbleiter, Keramik, dielektrisch, optisch, Oxid, hart, PTFE usw.) ausgelegt. Seine Kompaktheit und einfache Bedienung machen es zu einem idealen Beschichtungssystem für den Einsatz in F&E-Labors. Eingangsleistung - 220VAC 50/60Hz, einphasig - 2000W (einschließlich Pumpe) Leistung der Quelle - Zwei Sputterstromquellen sind in einem Schaltkasten integriert - DC-Quelle: 500W für die Beschichtung metallischer Werkstoffe - RF-Quelle: 600 W mit automatischer Anpassung für die Beschichtung nichtmetallischer Werkstoffe - Die kompakte 300 RF-Quelle ist gegen Aufpreis erhältlich Magnetron-Sputterkopf - Zwei 2"-Magnetron-Sputterköpfe mit Wasserkühlmantel sind im Lieferumfang enthalten (klicken Sie auf das linke Bild, um detaillierte Spezifikationen zu sehen) - Einer ist an die RF-Stromversorgung für nichtleitende Materialien angeschlossen - Der andere wird an eine Gleichstromquelle für die Beschichtung metallischer Materialien angeschlossen - Erforderliche Zielgröße: 2" Durchmesser - 1/16" max. Dicke für metallische Targets - 1/4" max. Dicke für nichtleitende Targets - Ein Target aus rostfreiem Stahl und ein Al2O3-Keramik-Target sind für Demo-Tests enthalten