Automatisches Gas-Regelsystem JW-300-GC

maßgefertigtfür die Aluminumproduktionfür das Pfannenspülen

Übersicht
Der JW-300-GC ist ein vollautomatischer Gasschrank, der für die präzise Förderung von Ultra-High-Purity (UHP)- und Hochreinheitsgasen ausgelegt ist. Er ist in Einflaschen- oder Doppel-flaschen-Ausführung erhältlich und kombiniert automatische Umschaltung, kontrolliertes Spülen und integrierte Sicherheitssysteme für Anwendungen in der Halbleiterfertigung, Mikroelektronik, Forschungslaboren und industriellen Gasverteilungen.

Technische Daten

• Modell: JW-300-GC
• Konfiguration: Einflasche oder Doppel-flasche
• Abmessungen (Doppel): W800 × D633 × H2172 mm
• Abmessungen (Einzel): W600 × D661 × H2104 mm
• Steuerspannung: 220 VAC, 50 Hz, 500 W
• Heizleistung: 220 VAC, 50 Hz, 1–6 kW (konfigurierbar)
• Spülanschluss: PN2, 1/4" MVCJ
• Hochdruck-Halteanschluss: HPN2, 1/4" MVCJ
• Vakuumanschluss: GN2, 1/4" MVCJ
• VENT/Abfluss: 1/2" MVCJ
• Pneumatische Luftversorgung: CDA driver, 1/4" SWG
• Gehäusebelüftung: OD 150 mm; Silan 810 m³/h; andere Gase 204 m³/h
• Bedienoberfläche: 10 Zoll Farb-Touchscreen

Standardausstattung

• Automatische Zylinderumschaltung und automatische Spülung
• Explosionsgeschützter Schrank mit selbstverriegelnder Tür und explosionsgeschütztem Sichtfenster
• Leckagealarm und ferngesteuerte Notausschaltung
• Unterdruckalarm

Optionen

• UV/IR-Flammendetektor
• Cylinder Shutboy
• Panel-Heizung
• Ethernet-Kommunikationsmodul
• CGA Guarder
• Excess-Flow-Schalter
• Pneumatische Zylindersteuerung
• Wägeeinheit / Waage
• Zylinderheizung

Anwendungen

• Gasverteilung für Halbleiter und Mikroelektronik
• Forschungslabore und F&E-Einrichtungen
• Beschichtung, Oberflächenbehandlung und spezialisierte Produktionslinien
• Prozesse, die eine kontrollierte Zufuhr von UHP/Hochreinigkeitsgasen erfordern

Bilder auf der Seite

• Hauptproduktbilder und Innenaufnahmen des Schranks mit Konfiguration, Bedienpanelen und Steuerungen