PVD-Auftragsmaschine OPT-E

DünnschichtVakuumoptisch

Übersicht
OPT-E ist eine optische Beschichtungsanlage mit Elektronenstrahl zur Abscheidung optischer und funktionaler Dünnschichten auf Glas, Quarz, Siliziumwafern und Keramiken. Typische Anwendungen sind mobiles 3D‑Glas, hochpräzise optische Linsen und Halbleiterwafer. Das System integriert eine Deflektions‑Elektronenkanone mit wassergekühltem Kupfertiegel und unterstützt Kristall‑ und optisches Monitoring für die präzise Multilagensteuerung. Konfigurierbare Ionenquellenoptionen verbessern Schichtdichte und Haftung.

Hauptvorteile

• Deflektions‑Elektronenkanone mit wassergekühltem Kupfertiegel zur Verdampfung von hochschmelzenden Metallen und Oxidkeramiken
• Kristall‑ und optisches Monitoring für genaue Dicken‑ und Spektralkontrolle
• Ionenassistierte Beschichtungsoptionen (RF, Hohlkathode, Filament Hall) zur Erhöhung von Dichte und Haftung
• Flexible Kuppel‑ oder Planetenträger für kontinuierliche Multilagenprozesse (AR, HR, Filter)

Merkmale

• Elektronenstrahl‑Verdampfungsquelle
• Kristall‑ und optische Monitoring‑Systeme für Multilagensteuerung
• Konfigurierbare Ionenquellentypen: RF, Hohlkathode, Filament Hall
• Werkstückträger: integrierte Kuppel oder 4‑Achsen Planetenscheibe; Revolution oder Planetenrotation mit stufenloser frequenzvariabler Drehzahlregelung
• Touch‑Screen Bedienung und PLC‑Automatisierung

Produktparameter
Modell: OPT-E
Beschichtungstechnologie: Elektronenstrahlverdampfung
Arbeitsprinzip: Physikalische Gasphasenabscheidung mittels hochenergetischer Elektronenstrahlverdampfung
Substratmaterialien: Glas, Quarz, Siliziumwafer, Keramiken
Typische Anwendungen: Mobiles 3D‑Glas, Präzisions‑Optiklinsen, Halbleiterwafer
Beschichtungstypen: AR, HR, optische Filterfilme, Halbleiter‑Elektroden/Kontaktlagen, AF‑Filme
Gängige Beschichtungsmaterialien: SiO2, TiO2, ZrO2, SiO
Verdampfungsquelle: Deflektions‑Elektronenkanone mit wassergekühltem Kupfertiegel
Endvakuum: 6 × 10⁻⁴ Pa (Leerlauf, Reinraum‑Bedingung)
Kammerdurchmesser‑Optionen: Ø900 / Ø1100 / Ø1350 / Ø1550 / Ø1800 / Ø2050 / Ø2350 / Ø2700 mm
Kammerhöhe: 1500 mm
Werkstückträger: Kuppel‑Träger / planetarische Flachscheibe
Trägerspezifikation: Integrierte Kuppel / 4‑Achsen Planetenscheibe

Technische Daten

• Modell: OPT-E
• Beschichtungsverfahren: Elektronenstrahlverdampfung (Deflektions‑Elektronenkanone + wassergekühlter Kupfertiegel)
• Monitoring: Kristall‑ und optisches Monitoring zur Dicken‑ und Wellenlängensteuerung
• Ionenassistenz: Konfigurierbare RF, Hohlkathode oder Filament Hall Ionenquellen
• Unterstützte Substrate: Glas, Quarz, Siliziumwafer, Keramiken
• Unterstützte Beschichtungen: AR, HR, optische Filter, Halbleiter‑Elektroden/Kontaktlagen, AF
• Gängige Materialien: SiO2, TiO2, ZrO2, SiO
• Vakuumleistung: bis zu 6 × 10⁻⁴ Pa (Leerlauf, Reinraumbedingungen)
• Kammergrößen: Durchmesser Ø900–Ø2700 mm; Höhe 1500 mm
• Werkstückträger: Kuppel oder Planetar (integrierte Kuppel oder 4‑Achsen Planetenscheibe), frequenzvariante Drehzahlregelung
• Steuerung: Touch‑Screen und PLC‑Automatisierung