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... Die plasmagestützte chemische Gasphasenabscheidung (PECVD) ist ein Verfahren, bei dem die Energie eines Plasmas zur Beschleunigung chemischer Reaktionen an der Waferoberfläche genutzt wird, um dünne Schichten bei Temperaturen unter 400 °C herzustellen. ...
KLA Corporation
... Hauptsächlich verwendet für die Erzeugung von Antireflexionsschichten höchster Qualität bei der Herstellung von kristallinen Silizium-Solarzellen und für die Abscheidung von Passivierungsschichten auf der Rückseite von Solarzellen. Graphitschiffchen ...
Die Maschine ist ein vorbildliches Spritzensystem der Reihe, das verschiedene harte Beschichtungen des Dosenpfands, weiche Beschichtungen, Verbundfilme und feste schmierende Filme auf den metallischen und nicht-metallischen Materialsubstraten. Zugetroffen ...
Shanghai Royal Technology Inc.
... Die Maschine Multi950 ist ein kundengebundenes Mehrfachverbindungsstellenfunktions-Bedampfensystem für R&d. Mit der Diskussion des helben Jahres mit dem Team Shanghai-Universität, das durch Professor Chen verbleit ist, bestätigten wir schließlich den ...
Shanghai Royal Technology Inc.
... Schauspielrahmen PECVD Dünnfilm-Beschichtungs-Maschine, sic Vakuum, das Maschine für Schauspielrahmen metallisiert FCV ist der kurze Name von Schauspielrahmen, es ist die neueste Technologie für nächste Generation von grünen Autos. Es kann elektrische ...
Shanghai Royal Technology Inc.
LEYBOLD OPTICS DLC ist ein Hochvakuum-PECVD-System (plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung) zur Auftragung von Antireflex-Beschichtungen (AR), welche hauptsächlich für Infrarot-Anwendungen (IR) von Wärmebildsystemen verwendet werden. Die führenden ...
Bühler Leybold Optics
... Bedienung und eines geringen Stromverbrauchs. Sie kann Aufdampfbeschichtung, Magnetron-Sputter-Beschichtung, Arc-Beschichtung, CVD, PECVD und andere Prozesse realisieren. Sie kann manuell, halbautomatisch und vollautomatisch gesteuert ...
... Die produktionserprobte Titan Deposition ist ein belastungsgeregeltes Depositionssystem mit einem Vakuumkassettenaufzug. Es kann für PECVD, HDCVD, PVD oder ALD konfiguriert werden. Die Titan Deposition bietet innovative und hochmoderne Prozesse auf kleinstem ...
Trion Technology
... Es eignet sich für das Wachstum von dichtem Aluminiumoxid und anderen Rückseitenpassivierungsfilmen im Prozess der hocheffizienten kristallinen Silizium-Perk-Batterie. Kontinuierliches Umschalten zwischen verschiedenen Filmen; Unterstützung des Bootsschiebemechanismus ...
Han's Laser Technology Co., Ltd
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