PVD-Auftragsmaschine Titan Deposition
Hoch -PE-CVDelektrostatischVakuum

PVD-Auftragsmaschine
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Eigenschaften

Methode
PVD, Hoch -PE-CVD, elektrostatisch
Weitere Eigenschaften
Vakuum

Beschreibung

Die produktionserprobte Titan Deposition ist ein belastungsgeregeltes Depositionssystem mit einem Vakuumkassettenaufzug. Es kann für PECVD, HDCVD, PVD oder ALD konfiguriert werden. Die Titan Deposition bietet innovative und hochmoderne Prozesse auf kleinstem Raum zu einem erschwinglichen Preis. Standardproduktionsprozesse wurden für die wiederholbare Abscheidung von SiOx, SiNx, SiC und a-Si entwickelt. Unterstützt durch mehr als 25 Jahre Erfahrung in der schnellen Prozessentwicklung. Systemfunktionen: SPS- und Touchscreen-Steuerung Elektrostatisches oder mechanisches Spannfutter Aktive Substrattemperaturregelung Vakuum-Kassettenaufzug Optionale Laser- und optische Endpunkte

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* Die Preise verstehen sich ohne MwSt., Versandkosten und Zollgebühren. Eventuelle Zusatzkosten für Installation oder Inbetriebnahme sind nicht enthalten. Es handelt sich um unverbindliche Preisangaben, die je nach Land, Kurs der Rohstoffe und Wechselkurs schwanken können.