Positioniersystem / Gestapeltes System CHARON2
6-Achseinachsig3-Achs

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Eigenschaften

Achszahl
6-Achs, einachsig, 3-Achs, 4-Achs, 5-Achs, 2-Achsen, 7-Achsen
Weitere Eigenschaften
kompakt, Gestapeltes System

Beschreibung

Die CHARON2-Plattform ist auf einer robusten, zuverlässigen und elegant gestapelten Architektur aufgebaut, die nach den Prinzipien der Modularität und Skalierbarkeit konzipiert wurde. Es reicht von einer eigenständigen X-Achse bis zu einem kompletten Bewegungssystem mit bis zu 7 Achsen. Datenblätter Leistung sind mit verschiedenen Elektronikkonfigurationen erhältlich Seine Kompatibilität mit aktuellen und zukünftigen Modulen und Optionen ermöglicht die Abdeckung eines breiten Anwendungsgebietes und von Anwendungsfällen. Diese flexible, skalierbare, modulare und ausbaufähige Plattform bietet einen Einstieg in alle Halbleiteranwendungen und viele Anwendungsfälle anderer Märkte, z.B. Medizin, Pharmazie, Materialwissenschaft und andere Die CHARON2-Plattform entwickelt sich in allen bedienten Märkten ständig weiter und unterstützt die Verlängerung der Produktlebensdauer der OEMs sowie Upgrade-Pfade. Seine Positionsgenauigkeit im Bereich von ±1 µm gepaart mit exzellenter bidirektionaler Wiederholgenauigkeit und hoher Dynamik unterstützt die Anwendungsentwicklung in allen Technologie- und Industriebereichen. Merkmale - Gesamthub : bis zu 650 mm x 410 mm - Verfügbar in 9 Standards x 2 Elektronik = 18 Konfigurationen als Standardprodukte - Kompakte Stellfläche - Nutzlast bis zu 30 Kg - Enthaltene Optionen und Funktionen: Schienenpartikelabsaugung (ETEL-Patent), kundenspezifische Signale, pneumatische Leitungen und mehr. - ISO1 Reinraum-Kompatibilität - Tip-Tilt-Korrektur mit dem Kombimodul Z3TM - Eingebaute Vakuumversorgung auf Chuck-Ebene - Kurze Umzugs- und Abwicklungszeiten Wichtigste Spezifikationen - Positionsgenauigkeit: ±1 µm für XY und ±3 arcsec für T - Positionsstabilität: ±2 nm für XY, ±0,02 arcsec für T und ±3 nm für feine Z - Bidirektionale Wiederholgenauigkeit: ±0,4 µm für XY, ±2 arcsec für T und ±0,03 µm für feine Z

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Messen

Sie können diesen Hersteller auf den folgenden Messen antreffen

BIEMH 2024
BIEMH 2024

3-07 Juni 2024 Bilbao (Spanien) Halle 6 - Stand C-04

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    * Die Preise verstehen sich ohne MwSt., Versandkosten und Zollgebühren. Eventuelle Zusatzkosten für Installation oder Inbetriebnahme sind nicht enthalten. Es handelt sich um unverbindliche Preisangaben, die je nach Land, Kurs der Rohstoffe und Wechselkurs schwanken können.