Puls-Magnetron HiPIMS

zylinderförmigrund

Das High-Power-Impuls-Magnetron-Sputtern (HiPIMS) ist eine relativ neue Entwicklung in der gepulsten Sputtertechnologie, bei der sehr energiereiche, kurzzeitige Impulse zur Erzeugung einer Plasmaentladung genutzt werden, die einen großen Anteil der gesputterten Atome ionisiert. Der ionisierte Fluss kann anschließend gelenkt werden, um die Beschichtungseigenschaften besser zu steuern. Beim HiPIMS werden dem Sputtertarget eine hohe Spitzenspannung und eine hohe Stromdichte in Impulsen mit relativ kurzen Impulslängen, entsprechend niedrigen Frequenzen und langen Zeitabständen zwischen den Zyklen zugeführt. Die Impulsdauern liegen typischerweise im Bereich von 50 bis 200 Mikrosekunden bei Frequenzen im Bereich von 500 Hertz, während die Zeit zwischen den Zyklen nur wenige Hundertstelsekunden betragen kann. Dies ermöglicht einen niedrigen Tastgrad im Bereich von 10 %, wodurch die Erwärmung minimiert und gleichzeitig die Prozessstabilität gewahrt wird. Der Einsatz der HiPIMS-Technologie zur Veränderung der Morphologie und Struktur der resultierenden Schichten bietet mehrere Vorteile. Eigenschaften wie Dichte, Härte, Oberflächentopografie, Brechungsindex und Haftung können durch den HiPIMS-Prozess modifiziert und verbessert werden. Angstrom Sciences hat eine Reihe von Sputterkathoden entwickelt, die diese extremen Leistungsdichten für kontinuierliche, lang andauernde Produktionsanwendungen aufrechterhalten können. Neben unserer patentierten turbulenten Targetkühlung verfügen die Hochleistungs-Impuls-Magnetron-Sputterkathoden von Angstrom Sciences über zusätzliche Kühlkanäle im Anodenkörper und in den Befestigungsflanschen, um während des Prozessbetriebs eine optimale Kühlung zu gewährleisten.