Puls-Magnetron HiPIMS

HIPIMS Sputtern steht für High Power Pulsed Magnetron Sputtering. Dieser relativ junge Fortschritt im gepulsten Sputtern mit sehr hoher Leistung, kurze Pulse von kurzer Dauer, um sowohl ein Plasma zu erzeugen als auch einen großen Teil der gesputterten Atome zu ionisieren. Es hat sich gezeigt, dass eine präzise Kontrolle der Intensität des Magnetfeldes an der Zieloberfläche für den HIPIMS-Prozess entscheidend ist, sowohl für die Reduzierung des Lichtbogens als auch für die optimale Ionisierung des gesputterten Materials. Angstrom Science hat sowohl für seine runden als auch für seine linearen Magnetron-Produktlinien Lösungen entwickelt, die es ermöglichen, das Magnetfeld entweder diskret (durch austauschbare Magnetsätze für interne Montagekathoden) oder kontinuierlich (durch Magnetpaket-Höhenverstellung bei externen Montagekathoden) zu variieren. HIPIMS-Magnetrons werden zur Vorbehandlung eines Unterteils gerade vor der Beschichtung und Dünnschichtabscheidung mit hoher Mikrostrukturdichte eingesetzt.