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... austauschbaren Wafer Chucks, die die Verwendung einer Vielzahl von Substraten und Masken ermöglichen, ohne dass Werkzeuge zur Neukonfiguration erforderlich sind. Das Ausrichtmodul enthält Mikrometer für die X-, Y- und ...
... Das EVG®610 ist ein kompaktes und vielseitiges F&E-System, das kleine Substratstücke und Wafer bis zu 200 mm verarbeiten kann. Das EVG610 unterstützt eine Vielzahl von Standardlithographieverfahren wie Vakuum-, Hart-, Weich- und Näherungsbelichtungsmodi ...
EV Group
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