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Mask Aligner / für Wafer
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... austauschbaren Wafer Chucks, die die Verwendung einer Vielzahl von Substraten und Masken ermöglichen, ohne dass Werkzeuge zur Neukonfiguration erforderlich sind. Das Ausrichtmodul enthält Mikrometer für die X-, Y- und ...
... Das EVG®610 ist ein kompaktes und vielseitiges F&E-System, das kleine Substratstücke und Wafer bis zu 200 mm verarbeiten kann. Das EVG610 unterstützt eine Vielzahl von Standardlithographieverfahren wie Vakuum-, Hart-, Weich- und Näherungsbelichtungsmodi ...
EV Group
... ist, um hohen Produktionsanforderungen und Fabriknormen gerecht zu werden. Bedienerfreundliche Software, minimierte Zeit für Masken- und Werkzeugwechsel sowie effizienter weltweiter Service und Support machen sie zur idealen Lösung für ...
EV Group
... >Übersicht
Dieses
Wafer-Belichtungssystem (
Mask
Aligner) verwendet ein originales UV-Optiksystem, optimiert für hochauflösende Belichtung, und einen Mechanismus zur hochpräzisen Parallelisierung ...
... Überblick
- Benk-Tisch Wafer-Belichtungssystem (Mask Aligner), entwickelt für F&E und Kleinserienfertigung.
- Unterstützt drei Spaltsteuerungsmodi: Hard Contact, Soft Contact
... Produkt
Vollautomatische
Wafer-Belichtungsanlage (
Mask
Aligner) für die LED-Chipherstellung. Kompatibel mit Micro LED und Standard-LED-Wafern; erhältlich in zwei kombinierten Größenvarianten für ...
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