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Mask Aligner / für Wafer Tischautomatischfür Produktion
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Eigenschaften
- Merkmal
- für Wafer, automatisch, Tisch, für Produktion, für Labor
Beschreibung
Überblick
Anwendungen
Hauptmerkmale
Spezifikationen
- Benk-Tisch Wafer-Belichtungssystem (Mask Aligner), entwickelt für F&E und Kleinserienfertigung.
- Unterstützt drei Spaltsteuerungsmodi: Hard Contact, Soft Contact und Proximity Gap.
Anwendungen
- Geeignet für Glas, Wafer, Folien und keramische Substrate.
- Labor-F&E, Prototyping und Kleinserienproduktion.
Hauptmerkmale
- Wählbare Ausrichtung: manuelle oder automatische Ausrichtungsoptionen.
- Wählbare Spaltsteuerung: automatische oder manuelle Spaltverstellung.
- Manuelles Be- und Entladen für flexible Handhabung verschiedener Substrate.
Spezifikationen
- Arbeitsgrößen: 12 Zoll, 6-8 Zoll, 4-6 Zoll, 2-4 Zoll und quadratische Formate.
- Be- / Entladen: Manuell.
- Ausrichtungsmethode: Manuell oder automatisch (wählbar).
- Spaltsteuerung: Automatisch oder manuell (wählbar).
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