Sputter-Beschichtungsmaschine

optisch

·Vorbehandlung von Plasma- und Graphit-Targets zur effektiven Verbesserung der Haftung der Dünnschichtschichten; ·Zwei Sputterkammern, wodurch die Beschichtungszeit im Vergleich zu einer Einzelkammer um die Hälfte reduziert und kürzere Zykluszeiten ermöglicht werden; ·Mehrere Sätze von Sputtertargets zur Realisierung einer hocheffizienten Abscheidung verschiedener Materialien; ·Stufenlose Einstellung des Abstands zwischen mehreren Verdampfungsbooten, Feinabstimmung des ES-Abstands und präzise Steuerung des Dosiervolumens in der Spritzenpumpe, um die Ölbeständigkeit des Produkts zu gewährleisten; ·Das Design der Beschichtungstrommel mit großem Durchmesser in Kombination mit einer maßgeschneiderten Aufhängelösung für Substrate verbessert den Durchsatz erheblich; ·Die automatische Handhabung beim Be- und Entladen der Substrate, integriert mit einem Türventil und einer Schienensicherheitserkennung, garantiert einen sicheren Betrieb.