·Einstufige beidseitige Beschichtung mit einer einseitigen Schichtdicke von 30 nm bis 1000 nm;
·Erreicht eine Prozessgeschwindigkeit von 3 bis 50 m/min und eine große Beschichtungsbreite von 1650 mm;
·Erweiterbare Beschichtungskammer für Mehrprozess- und Hochgeschwindigkeitsbeschichtung;
·Vakuumunterbrechung und -isolierung: ermöglicht einen schnellen Walzenwechsel ohne Vakuumunterbrechung;
·Automatisierte Beschichtungssteuerung, PID-Temperaturregelung für die Kühlung der Beschichtungswalze und Bedienung über eine Computerschnittstelle.
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