Wärmebehandlungsofen VF-5900
OxidationSchrankmodellelektrisch

Wärmebehandlungsofen
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Eigenschaften

Funktion
Wärmebehandlung, Oxidation
Konfigurierung
Schrankmodell
Wärmequelle
elektrisch
Atmosphäre
unter kontrollierter Atmosphäre
Weitere Eigenschaften
für Flugzeugbau

Beschreibung

Dieser Ofen ist ein Wärmebehandlungssystem für Siliziumwafer, IGBT, Polyimid und Dünnwaferoxidation, Diffusion und CVD. Als unser Flaggschiffmodell ist dieser Ofen mit einem Großraumlager ausgestattet und zeichnet sich durch eine kurze Zykluszeit aus. Merkmale Große Charge, max. 100 Wafer Batch-Verarbeitung Max. 16 FOUP Bestände Hervorragende Temperaturregelung im niedrigen bis mittleren Hochtemperaturbereich durch den Einsatz von LGO-Heizgeräten Schneller Wafertransfer durch den Einsatz von Single/Five Wafern Handling Roboter Ausgestattet mit einer bedienerfreundlichen Hochleistungs-Steuerung

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* Die Preise verstehen sich o.MwSt., Lieferkosten, und Zollgebühren. Sie enthalten keine der Zusatzkosten für Installation oder Inbetriebnahme. Es handelt sich um unverbindliche Preisangaben, die je nach Land, Kurs der Rohmaterialien und Wechselkurs schwanken können.