PVD-Auftragsmaschine HD500

Produktübersicht
Der HD500 basiert auf einer Composite-Beschichtungstechnologie-Plattform, die hochionisierte Magnetron-Sputterverfahren (HiPIMS) und Multi-Arc-Ionenbeschichtung in einem Prozessrahmen integriert. Er erzeugt vielseitige Dünnfilme für schwer zu beschichtende Werkstoffe wie Edelstahl und Titanlegierungen und trägt zur Verlängerung der Bauteillebensdauer bei. Das System eignet sich für Kleinserienfertigung und Prozessentwicklung.

Hauptvorteile

• Laterales Ätzen mit Heißdraht-Ionenquelle: liefert gleichmäßiges laterales Ätzen, kontrollierte Überhänge und vereinfachte Wartung.
• Composite HiPIMS-Magnetronsputtern: DC + HiPIMS-Magnetrons erreichen hohe Depositionsraten und liefern die benötigte Ionenergie für refraktäre Elemente (Nb, B, C, W, V) sowie eine breite Palette von Beschichtungsmaterialien.
• Plasma-optimierte Multi-Arc-Quelle: drei Gruppen von jeweils sechs kreisförmigen Multi-Arc-Targets mit verdeckter Lichtbogenzündung für zuverlässigen Betrieb und einfache Wartung; ermöglicht Multi-Element- und Mehrschichtabscheidungen mit glatten Filmoberflächen und hoher Zielausnutzung.
• Mehrere Depositionsplattformen auf einem Gestell: DC MS + HiPIMS MS + Multi-Arc-Ionenplattierung erlauben Einzel-, Komposit- und Mischbeschichtungsprozesse im selben Chargenlauf.

Produktparameter
Name: HD500
Beschichtungstechnologie: Composite-Beschichtungstechnologie (hochionisiertes Sputtern + Arc-Composite)
Ätzung: Laterale Ionenquelle (Heißdraht)
Multi-Arc-Quellen (Anzahl): 6
Magnetron-Kathoden (Anzahl): 1
Gerätegröße (mm): 3400 × 1600 × 2600
Kammervolumen (m³): 0.7
Effektive Beschichtungsfläche (mm): Φ410 × 400
Max. Arbeitstemperatur (°C): 700
Ladekapazität (Anzahl Gestelle): 5
Klingenbeladung (APMT1135): 6000 pcs
Stangenklingen-Beladung (D4*50L): 1800 pcs
Max. Zuladegewicht (kg): 300
Wellen-Durchmesser: Φ130
Prozesszeit (AlTiN): 6-8 h

Technische Spezifikationen

• Modell / Serie: HD500 (HD-Serie)
• Beschichtungstechnologie: Composite hochionisiertes Sputtern + Arc
• Ätzmethode: Laterale Ionenquelle (Heißdraht)
• Multi-Arc-Quellen: 6 (3 Gruppen von 6 kreisförmigen Targets)
• Magnetron-Kathoden: 1
• Geräteabmessungen: 3400 mm × 1600 mm × 2600 mm
• Kammervolumen: 0.7 m³
• Effektive Beschichtungsfläche: Φ410 × 400 mm
• Max. Arbeitstemperatur: 700 °C
• Ladekapazität: 5 Gestelle
• Klingenbeladung (APMT1135): 6000 pcs
• Stangenklingen-Kapazität (D4*50L): 1800 pcs
• Max. Zuladegewicht: 300 kg
• Wellen-Durchmesser: Φ130
• Typische Prozesszeit (AlTiN): 6-8 h