Hitachi Wafer-Ätzmaschinen
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... Die nächste Generation von Bauelementen mit einer Größe von 20 nm und darunter erfordert Doppelstrukturierung, 3D-Strukturen (dreidimensionale Strukturen) und komplexe, hochpräzise Prozesse, die die Bildung von Schutzschichten und Finishing-Techniken ...
Hitachi High-Tech Europe GmbH
... High-Tech bietet mit einer neuen Mikrowellen-ECR-Plasmaätzkammer (Elektronen-Zyklotron-Resonanz), einer Hochgeschwindigkeits-Wafer-Temperaturregelung und einer Hochvakuum-Absaugregelung eine hervorragende Profilkontrolle ...
Hitachi High-Tech Europe GmbH
... ersten Mal kostenlos an. Bitte erkundigen Sie sich bei unserem Unternehmen nach der Wafergröße, der Anzahl der zu bearbeitenden Wafer usw. ...
Hitachi High-Tech Europe GmbH
... kostenlos zur Verfügung. Bitte erkundigen Sie sich bei unserem Unternehmen nach der Wafergröße, der Anzahl der zu bearbeitenden Wafer usw. Größe der Ionenquelle - Φ200 Spannung der Ionenquelle - 300~1000V Stromdichte ...
Hitachi High-Tech Europe GmbH
... hohe Gleichmäßigkeit als auch ein hoher Durchsatz sind möglich. - Kontrolle der Ätzraten ist möglich, hoch und niedrig. - Wafer (Substrat) selbstdrehende Bühne. - Entsprechend unregelmäßig geformten Substraten wie rechteckigen ...
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