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... Standard-O-Ring-Klemmverschraubungen zugänglich, was eine einfache Installation in jedes Vakuumsystem ermöglicht. Umfassendes Größensortiment Runde Magnetronquellen sind mit Targetdurchmessern von 1″ (25 mm) bis 16″ (406 mm) und darüber ...
Angstrom Sciences, Inc.
... Das High-Power-Impuls- Magnetron-Sputtern (HiPIMS) ist eine relativ neue Entwicklung in der gepulsten Sputtertechnologie, bei der sehr energiereiche, kurzzeitige Impulse zur Erzeugung einer Plasmaentladung genutzt werden, die einen großen ...
Angstrom Sciences, Inc.
... Gleichmäßigkeit ermöglicht. Unsere Magnetrons können in internen oder externen Konfigurationen montiert werden. Ein rotierendes Magnetron bietet eine hervorragende Gleichmäßigkeit ohne Bewegung des Substrats. In Verbindung mit der vollflächigen ...
Angstrom Sciences, Inc.
... Indirekt gekühlte Magnetrons verfügen über eine Zwischenwand zwischen dem Kühlwasser der ringförmigen Kathode und dem Sputtertarget. Diese Wand bildet eine dauerhafte Abdichtung zwischen Wasser und Vakuum und verhindert so Undichtigkeiten, die auftreten ...
Angstrom Sciences, Inc.
... Für Anwendungen, bei denen das Substrat über längere Zeiträume hohen Temperaturen ausgesetzt werden muss, sind die Hochtemperatur-Rundmagnetrons von Angstrom Sciences mit keramischen Isolatoren und Vakuumdichtungen optimiert, die es der Kathode ermöglichen, ...
Angstrom Sciences, Inc.
... Hochleistungs-HF- Magnetron-Sputterkathoden können erfolgreich in F&E- und Produktionsanwendungen eingesetzt werden, sofern bei der Konstruktion bestimmte Kriterien berücksichtigt werden. Kreisförmige Hochleistungs-HF-Magnetrons ...
Angstrom Sciences, Inc.
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